中國傳突破門檻造出EUV光刻機 ASML執行長打臉：他們落後8世代
近期傳出中國突破技術門檻，成功研發國產EUV光刻機，被視為半導體界「曼哈頓計畫」，引起業界重視，更有人說荷蘭半導體設備霸主ASML將被撼動。ASML執行長福克（Christophe Fouquet）接受荷媒專訪時駁斥，目前毫無證據顯示中國接近這一水準，直言中國因8年沒有EUV存取權，技術落後8代之多，短期內恐難突破。
福克接受荷蘭《電訊報》（De Telegraaf）專訪時提到，外傳中國打造出國產EUV，他直言，由於國際制裁及出口管制，中國已有8年無法取得EUV設備存取權，意味中國在先進製程領域，落後了8代。
不過福克也提到，中國將重心放在主流晶片，確實在國家資本加持下，技術門檻較低的領域已取得進展，由於投入金額龐大，將逐步開始影響全球產業平衡，但是尖端曝光技術仍有不小的鴻溝。
記者問到，中國是否會因西方封鎖，導致技術差距鴻溝過大，被迫加速建立自主完整的技術體系？福克認為，不能排除這種可能性，但是在EUV領域，技術難度很高，即時中國試圖追趕，但仍看不到他們已經接近此一水準的證據，這是10年等級的挑戰，而非3年就可解決。
另外，福克也證實公司高層確實與政府監管機構保持對話，但討論過程不會針對特定國家點名，而是解釋這項技術的運作原理，包括EUV的複雜程度以及需要多少時間成本，想要突破並不容易。