晶瑞光跨足半導體黃光製程 拚明年貢獻營運

晶瑞光 (6787-TE) 今 (3) 日表示，瞄準未來 ALS(環境光源感測器)、Micro LED、Micro Filter 等業務布局，將延伸現有製程至半導體黃光製程，並向日系設備商採購 UV 曝光機、蝕刻機等黃光製程設備，預計第 3 季裝機、明年開始貢獻營運。

晶瑞光表示，看好 5G NR 技術持續加速推進物聯網趨勢，將運用旗下濺鍍技術，跨入半導體黃光製程，並將產品線延伸至 ALS 晶圓鍍膜技術，瞄準未來 ALS 市場商機，也符合未來消費性電子產品薄型化、微型化趨勢，相關機台將在第 3 季進行裝機、第 4 季調機，預計明年可望正式接單貢獻營運。

根據國外研究機構 Grand View Research 報告指出，全球光傳感器市場規模在 2019 年達到 28.5 億美元 (約新台幣 796 億元)，預計 2020 年至 2027 年年複合成長率將達 10.9%，市場規模持續放大。

營運方面，展望今年，晶瑞光表示，受惠後疫情時期筆電需求增溫，新藍玻璃濾光片主要鏡頭模組客戶，包含先進光 (3362-TW)、中揚光 (6668-TW)、佳凌 (4976-TW)、奇景等需求維持強勁，也看好 NBPF filter(近紅外光窄波濾光片)、ALS 業務逐步貢獻營運，全年仍以虧轉盈為目標。