美國《MATCH法案》擴大全球晶片管制！對ASML有何影響？
根據美銀證券（BofA Securities）的說法，美國擬議中的《MATCH 法案》，全名「硬體技術管制多邊接軌法」（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware），旨在加強並協調對關鍵半導體製造設備的出口管制，特別是針對先進晶片生產中所使用的關鍵「瓶頸」技術。
根據《Investing.com》該法案草案將要求迅速且定期辨識敏感的半導體設備與設施，同時推動美國對盟友採取嚴格的「預設拒絕」（deny-by-default）出口許可制度，適用於設備銷售與服務。
此外，美銀證券指出，法案還包含一項「後備機制」：若盟友國家未能配合政策，美國可將其管轄權延伸至外國製造的設備，實際上透過類似「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule）的條款，將出口管制的影響力擴展至全球。
對全球曝光機龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 而言，這項法案影響重大。《MATCH 法案》明確將該公司的核心產品之一 DUV 曝光機納入管制範圍；同時，法案對「服務」的定義相當廣泛，涵蓋設備安裝、維護、遠端軟體更新及技術支援等。
這增加了限制措施可能不僅限於新設備銷售，還會影響與現有系統相關的、利潤豐厚的中國市場服務收入的風險。
中國仍是艾司摩爾的重要市場，根據 2025 年預估，約占其總銷售額的 29%。公司先前已預期來自中國的營收占比將回歸正常，但若出口管制進一步收緊，影響恐將加劇。
根據美國銀行的情境分析，若全面禁止向中國出口 DUV 曝光機及相關服務，艾司摩爾營收可能下滑約 14% 至 15%，息稅前盈餘則可能減少 16% 至 17%。
不過，來自中國以外市場的強勁需求，尤其是在 AI 與記憶體投資持續推動下，可望部分抵銷衝擊，降低淨息稅前盈餘影響。
整體而言，《MATCH 法案》凸顯地緣政治在半導體設備產業中的影響力日益加深。
儘管艾司摩爾仍受惠於結構性需求強勁，以及在先進曝光機領域近乎壟斷的地位，但美銀指出，出口管制政策的演變及西方盟友之間的政策協調，將持續成為影響其長期成長軌跡的關鍵變數。