涉台積電內鬼洩密案！在押3名工程師認罪 今移審法院拚交保
台灣「護國神山」台積電爆發二奈米技術外洩案，高檢署查出，跳槽日商、東京威力科創（TEL）的前工程師陳力銘，為改善蝕刻機台良率協助新東家成為更多站點供應商，竟找上現職工程師戈一平、吳秉駿翻拍晶片製程、試產參數配方，其中12張經查為國家核心機密。高檢署日前偵結起訴此案，今將提訊在押的3工程師移審智財商業法院，3人能否獲交保，法院將開庭決定。
檢方查出，陳力銘曾任職台積電12廠良率部門工程師，其後跳槽到台積電供應商東京威力科創行銷部門工作，他為了提升新東家的蝕刻機台良率，爭取成為台積電二奈米製程蝕刻站點供應商以量產，利用情誼聯絡在職的工程師吳秉駿、戈一平及廖姓工程師（廖因未涉域外使用意圖且未據告訴，另予簽結），要求提供二奈米機密技術資料。
據調查，陳力銘、吳秉駿、戈一平均為清大畢業校友，吳秉駿和戈一平答應幫忙後，用公司配發筆電連線登入內網，陳力銘則用手機翻攝台積電的廠商測試數據，其中12張觸及國家核心關鍵技術。台積電察覺有員工異常登入查看製程資料，今年7/8向高檢署提告。
檢方後續發動搜索約談，將陳力銘、吳秉駿、戈一平約談到案後聲請羈押禁見獲准，日前偵結起訴3名工程師。
檢方認定，陳力銘涉犯《營業秘密法》意圖域外使用而竊取營業秘密罪、涉犯《營業秘密法》竊取營業秘密罪、《國家安全法》國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪，共求處14年重刑；至於吳秉駿則涉犯意圖域外使用而竊取營業秘密罪、國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪，求刑9年；戈一平涉犯國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪，求刑7年。