Mentor EDA 工具獲台積電類比／混合 IC 製程認證
EDA 工具是半導體製程相當重要的工具，其中西門子旗下 Mentor 能夠跨越數位以及類比 IC，比起同業具備優勢。Mentor 今日宣布，其 Tanner 類比／混合訊號（AMS）設計工具──Tanner S-Edit 原理圖擷取工具，和 Tanner L-Edit 佈局編輯器──已通過台積電的互通性 PDK（iPDK）認證，可適用於台積電為大量類比 IC 設計提供的各種特殊製程技術。
台積電的特殊製程技術 iPDK 可協助晶片製造商滿足領先 AMS IC 設計的特定要求。Mentor AMS 工具現已通過台積電的多項 iPDK 認證，包括 22 奈米超低功耗、28 奈米高效能運算、40 奈米混合訊號技術，以及適用於現今最先進類比 IC 的其他特殊製程技術。
台積電設計建構行銷處資深處長 Suk Lee 表示：「我們與 Mentor 的持續合作，可確保我們的共同客戶能獲得所需的 EDA 解決方案和服務，以支援他們在特殊節點上成功完成晶片設計和製造。這項共同努力把台積電的特殊製程技術與 Mentor 的先進設計工具結合在一起，使我們的客戶能在汽車、智慧穿戴裝置和工業物聯網等廣泛市場中實現創新成功。」
「全球許多成長最快的市場越來越需要專用的混合訊號 AMS晶片，以用來無縫連接類比和數位世界。Mentor 的 Tanner 工具經過專門設計，以滿足 IC 設計人員日益成長的需求，並為需要高度創新的混合訊號 AMS IC 提供一個理想的設計平台」Mentor 晶片設計系統總經理 Greg Lebsack 表示。「Tanner AMS 工具現已通過台積電支援類比 IC 設計的特殊製程認證，這對我們的客戶來說是個大好消息，因為它可以加速上市時程並把風險降至最低。Mentor 的 Tanner AMS 解決方案和台積電的類比 IC 特殊製程是協助我們共同客戶致勝市場的絕佳組合。」
（首圖來源：Mentor）