對中科技圍堵反加速中國科技自主？！中國光刻機量產印證黃仁勳觀點

外媒報導，中國已開始量產自主研發的浸潤式（Immersion）DUV（Deep Ultraviolet，深紫外）光刻機，預計今年將交付約5台設備，立即引發業界大地震。學者專家分析，儘管中國量產的光刻機在技術、精度與良率上，和產業龍頭艾司摩爾（ASML）仍有差距，但此舉不僅已經挑戰了ASML的獨霸地位，更深刻印證了輝達（Nvidia）創辦人黃仁勳的觀點，也就是對中國科技的圍堵，反而會加速中國達成科技自主的目標，而這也將使得未來整個科技確立朝「一個世界，兩套系統」的方向發展。

中國自產DUV光刻機即將量產

根據媒體的報導，中國在自主研發的浸潤式（Immersion）DUV（Deep Ultraviolet，深紫外）光刻機上出現了重大突破，並即將開始量產，這項計畫是由上海愛生納電子科技集團（Shanghai Aishengna Electronic Technology Group）主導，今年預計先交付約5台設備，明年產量目標就上看20台，而首批客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及長鑫存儲（CXMT），而這項破突則被視為北京推動半導體自主供應鏈的重要里程碑。

中國量產DUV未成氣候 短期恐難造成威脅

消息傳出後，立即在業內引發大地震，原本獨霸全球的荷蘭產業龍頭艾司摩爾（ASML）股價一度重挫 8.3%、跌至 6 月初以來低點，歐洲與亞洲相關晶片股也同步下挫。不過，學者認為，這是市場反應過度，原因是ICT產業的賽道中，基本上沒有第二名的生存空間，以去年ASML交付約130台浸潤式DUV光刻機的狀況來看，中國DUV設備產量有限，短期內難以構成實質商業威脅。

中華經濟研究院第一研究所副研究員王國臣說：『基本上這種ICT產業，沒有第二名的生存空間，所以台積電會這麼重要是因為它是第一名，那麼韓國的三星等等為什麼會持續的衰退，那也是因為它不是第一名。』

中國DUV核心策略在性價比 ASML恐失中國市場

事實上，除了量產的能力有限之外，從技術精準度與良率來看，中國國產DUV與ASML生產的設備確實仍有一段距離。不過，台灣半導體專家陳子昂提醒，中國的核心策略不在技術，而在於「性價比」。

他進一步解釋，雖然中國的DUV性能尚難以全面超越，但中國國產機型的價格卻僅為ASML同等級設備的1/3，也因此短期內各國晶圓廠基於性能考量仍會採購ASML設備，對ASML的營收影響有限，但長期來看，為了突破美方持續對中國「卡脖子」的科技戰略，中國未來勢必會減少對ASML的採購，轉向扶持本土設備，而這也意味著ASML勢必會逐漸失去、佔其營收高達14%的中國市場。

陳子昂說：『當然短期內，他對ASML的挑戰營收等等的影響不大，因為畢竟世界各國的晶圓廠應該還是買ASML的設備，因為他的性能是比中國的性能來得好，但是ASML看來長期會失去中國的DUV市場，因為中國的營收比重目前佔ASML的14%，中國爾後應該是不會去採購ASML的DUV。』

2030年恐將血洗聯電等成熟製程業者

至於中國在DUV上技術的突破對台灣的影響，陳子昂認為，對台積電的衝擊相對較小。由於台積電營收主力為先進製程，而DUV主要應用於成熟製程，因此短期內技術威脅有限。然而，台灣其他從事成熟製程或記憶體生產的業者，像 聯電（UMC）、力積電（PSMC）、世界先進（VIS）、南亞科及華邦電等，則需高度警惕。

他解釋，過去中國因買不到DUV設備而難以擴大量產規模，但隨著國產化進程，如果2030年中國光刻機的量產速度、精準度與良率全面提升，加上其大力發展成熟製程的國家政策，屆時全球成熟製程恐面臨嚴重的供過於求風險。

中國科技突破印證黃仁勳觀點 未來將成一個世界兩套系統

另外，隨著中國在DUV光刻機的突破，以及新創企業「月之暗面」發布的AI開源模型Kimi3震撼全球後，陳子昂認為，這多少印證了輝達創辦人黃仁勳的看法，也就是對中國科技的圍堵只會加速其科技自主的腳步，而且這個趨勢恐怕將造就全球科技的發展，未來將走向「一個世界，兩套系統」的模式。

他說：『我非常同意黃仁勳的看法，你科技圍堵當然就是逼迫中國走自己的路 ，也就是走自己的科技自主、自己的標準，不會用西方的那一套，就是我2019年6年前所講的，一個世界、兩套系統，中國為了突破美中科技戰的所謂卡脖子工程，他不得不去走自己的路，當然對全世界而言，可能形成一個世界、兩套系統的情形下，廠商業者自己會去選邊站。』

陳子昂觀察，美中的科技角力將從此刻徹底走向「分水嶺」。西方世界短期內不太可能採購紅色供應鏈的設備與產品，而中國在買不到西方設備的情況下，必然會持續突破，完善其自主系統。這種「一個世界、兩套系統」的態勢，不僅改寫了半導體競爭規則，也為全球供應鏈的穩定性帶來了長期的挑戰。