高美館首屆園區空間藝術徵件計畫《2026 縫隙計畫》開展，延展公共場域新想像
高雄市立美術館今年首度推出園區空間藝術徵件計畫《2026 縫隙計畫 KMFA: In-Between》，以高美館建築體作為一層界定內外的皮膜為觀察起點。展覽邀集 7 組跨域藝術家，以環境介入的創作方式，回應高美館建築、森林、埤塘與城市交界之間的空間特質，透過藝術重新開啟觀眾觀看美術館與自然環境的嶄新視角。展期自 7 月 31 日起至 2027 年 4 月 6 日於美術館園區展出。
趙尉翔《露銀計畫──縫隙中霧露均霑的交織地景》運用水霧與鋁板裝置重現內惟埤濕地曾有的氤氳景象。圖 / 非池中攝影
從建築皮膜出發，重新觀看美術館「內」與「外」的界線
高美館建館 32 年來，館舍建築早已自然融入森林、埤塘與生態園區之中，形成兼具藝術、人文與自然的獨特場域。此次《縫隙計畫》透過公開徵件與邀件，共有 7 組年輕跨域藝術家入選，以細膩的觀察重新發掘美術館建築及周邊環境的空間特質，將平時容易被忽略的縫隙空間、蜿蜒小徑、坡地、水岸與湖畔等場所，轉化為持續生成、彼此共構的關係場域。展覽以高美館藝術＋生態文化園區為主要場域，透過藝術介入環境，引領觀眾重新發現建築、自然生態與城市之間相互連結的多重關係。
作為一座與城市共生的美術館，高美館藝術生態園區一直是市民散步、休憩及親近自然的重要公共空間。下沉式廣場、迴廊、水岸與綠地等不同空間介面，串連起建築與自然地景，也形塑出獨特的漫遊經驗。《縫隙計畫》試圖打開另一種理解美術館的方式，透過裝置、霧幕、光影等多元環境藝術形式，重新連結建築、地景與市民之間持續流動、相互生成的場域美學，讓美術館不只是展示作品的場所，更成為藝術與自然共同發生的現場。
黃婕瑛與簡妤珊的《尚未翻譯的自然》透過風鳴裝置與葉綠素感光球體，讓風吹、日照與雨水共同參與創作，作品亦將隨展期及四季變化持續生成。圖 / 高雄市立美術館提供
7 組藝術家回應高美館園區空間
本次展出的 7 件作品皆回應園區自然生態、建築肌理與天候環境。位於美術館迴廊外樹林的《浮游II》，由丁建中創作，作品隨風、濕度、光線與人流持續變化，於白天與夜晚展現不同樣貌，讓觀眾在穿行之間感受光線與空間流動的節奏；草坡上的趙尉翔作品《露銀計畫──縫隙中霧露均霑的交織地景》，運用水霧與鋁板裝置重現內惟埤濕地曾有的氤氳景象，使地方自然記憶與當代建築語彙交織共存。
丁建中《浮游II》隨風、濕度、光線與人流持續變化，讓觀眾在穿行之間感受光線與空間流動的節奏。圖 / 非池中攝影
高美館建築中的轉折、邊界與過渡空間，同樣成為藝術家創作的重要媒介。森屾創作設計有限公司（林雨祥、林佩欣、劉姿斈）運用美術館下沉廣場的空間特質，在三秌茶屋前打造作品《迷霧林》，藉由木構空間模擬陽光穿透森林樹冠的光影變化，使自然與建築彼此滲透、相互映照。蔡旻翰的《內惟埤考2026mdash臨時考掘站001號》則利用廣場樓梯下方平時容易被忽略的縫隙空間，打造一處虛構考古現場，引領觀眾重新閱讀建築肌理與時間留下的痕跡。
森屾創作設計有限公司的《迷霧林》藉由木構空間模擬陽光穿透森林樹冠的光影變化。圖 / 非池中攝影
蔡旻翰《內惟埤考2026mdash臨時考掘站001號》打造一處虛構考古現場，帶觀眾思考藏於建築褶皺中的時間痕跡。圖 / 非池中攝影
館前廣場的駁坎階梯沿著內惟埤湖畔層層展開，提供市民休憩、眺望湖景的場所。著陸方法工作室（蔡寧）作品《相縫之處》於駁坎之間架設竹構編織天幕，除了緩和高雄夏季炎熱氣候，也重新定義人們停留與穿越空間的方式。簡莉芸與黃婕瑛共同創作《落入水面：軌跡到餘響》，從內惟埤的歷史出發，以金屬構件、光線與聲響回應地方水文記憶，使觀者在作品中感受時間與空間層層擴散的漣漪。另一方面，大自然也是此次展覽的重要共同創作者，黃冠慈與簡妤珊的《尚未翻譯的自然》透過風鳴裝置與葉綠素感光球體，讓風吹、日照與雨水共同參與創作，作品亦將隨展期及四季變化持續生成，呈現自然生命不斷演化的樣貌。
著陸方法工作室《相縫之處》於湖畔駁坎之間架設竹構編織天幕，重新定義人們停留與穿越空間的方式。圖 / 非池中攝影
簡莉芸、黃婕瑛共同創作的《落入水面：軌跡到餘響》從內惟埤的歷史出發，以金屬構件、光線與聲響回應地方水文記憶。圖 / 非池中攝影
高美館表示，《縫隙計畫》真正希望打開的，不只是建築中的縫隙，更是觀看方式的縫隙。透過藝術重新召喚人們對環境的感知，邀請觀眾重新閱讀這座美術館的建築、地景與自然生態，讓整座園區成為策展的一部分。隨著時間流轉、季節更迭與天候變化，每一次停留、穿行與回望，都將生成不同的觀看經驗，也重新思考人、自然與藝術之間持續交會的多重可能。更多展覽資訊請參閱高雄市立美術館官方網站、Facebook 粉絲專頁及 Instagram。
高美館《縫隙計畫》即(7/31)起開展，館長顏名宏(左6)、參展藝術家、評審委員林宏璋(左4)與張惠蘭(左5)共同合照留念。圖 / 高雄市立美術館提供
展覽資訊
2026縫隙計畫 KMFA：In-Between
展期｜2026.07.31 - 2027.04.06
地點｜高雄市立美術館 園區
參展藝術家名單
黃冠慈、簡妤珊 Jerry Huang, Nicky Yu-Shan Chien
簡莉芸、黃婕瑛 Li-Yun Chien, Jie-Ying Huang
蔡寧（著陸方法工作室） Ning Tsai (Landing Approach Studio)
蔡旻翰 Min-Han Tsai
林雨祥、林佩欣、劉姿斈（森屾創作）Yu-Hsiang Lin, Pei-Sin Lin, Tzu-Hsueh Liu (SenseSite Studio)
趙尉翔 Wei-Hsiang Chao
丁建中 Chien-Chung Ding