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台積電加速布局CoPoS面板級封裝 研調:下階段轉向玻璃基板

太報

更新於 06月17日09:03 • 發布於 06月17日09:01 • 戴嘉芬
台積電已向智慧財產局申請「TSMC-COPOS」商標,5/16正式註冊。資料照

AI半導體需求爆發,驅動先進封裝技術快速演進,面板級封裝(FOPLP)成為各方角力新戰場。研調分析,台積電短期聚焦 CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)並鎖定310×310mm基板尺寸,2026年為相關設備與材料商的驗證關鍵期,預計2027年進入試產,並規劃於2028下半年正式量產。下一階段布局重點則將轉向玻璃基板,合理量產時程推估落在2030年後。

TrendForce指出,玻璃基板(Glass Core Substrate)技術目前突破仍面臨多重挑戰。核心製程TGV(Through Glass Via)需克服雷射能量不穩定導致孔徑一致性不足、鑽孔過程產生的細微玻璃裂紋、蝕刻液難以深入10μm孔徑影響導通效果,以及大規模量產條件下的動態對位精度等問題。

在材料端,玻璃雖具備先天平整性佳的優勢,但基板尺寸放大至500×500mm以上後,維持整面奈米級平整度的難度將大幅提升。此外,多層異質材料堆疊下的熱膨脹係數(CTE)不匹配問題,也可能在製程中引發翹曲,進而影響曝光對位精度與整體良率。

在此背景下,TrendForce指出台灣面板廠具備先發優勢。目前已有面板廠在 PMIC與RF等成熟製程的FOPLP上實現量產,封裝尺寸達620×750mm,這既是發揮折舊完畢大尺寸面板產線剩餘價值的最佳體現,亦創造額外現金流。更重要的是,面板廠多年積累的大尺寸方形玻璃搬送、對位與均勻沉積的知識技術,是向TGV等核心基板加工技術邁進的重要基礎,與半導體廠及OSAT廠商之間存在清晰的差異化與互補空間。

台灣本土面板相關材料與設備廠商亦在關鍵環節有所布局。在材料端,特化廠商推出低溫固化介電層材料,將製程溫度壓至180°C以下,從源頭減少熱應力累積,降低翹曲風險。在設備端,有廠商採用先以雷射改質,後再進行蝕刻的兩階段鑽孔製程,相較傳統直接雷射燒蝕,更能精準控制10μm以下孔形,已通過國際IDM大廠驗證,出貨量逐步提升。

TrendForce認為,台灣面板廠在大尺寸玻璃加工的工藝積累,若能與半導體大廠在先進封裝與製程整合上的優勢相互結合,輔以本土材料與設備供應鏈的生態系支撐,並順應台積電持續推進在地化採購的政策,將有望壓縮玻璃基板技術成熟的學習曲線,並為台灣面板產業找到轉型升級的方向。

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