汎銓董座柳紀綸：測矽光子漏光就會用到汎銓專利 籲光焱面對法律
矽光子檢測專利戰不斷延燒，針對光焱科技今日駁斥汎銓「以舊打新」的回應，汎銓今日表示，正式提告專利侵權，並呼籲光焱應面對法律。
面對25日半導體檢測大廠汎銓對侵權的指控和提告，矽光子檢測設備業者光焱今日表示，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差，強調公司營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。
對此，汎銓重申，已於2026年3月25日上午正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，主張光焱科技股份有限公司侵害本公司所擁有之中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並依法請求相關侵權行為之停止及新台幣2億元之損害賠償。本案已進入司法程序，相關事實與法律爭點，將依法由法院審理並作出最終判斷。
汎銓柳紀綸董事長表示，矽光子主要使用紅外線波段，最常用為1310奈米和1550奈米，所以要偵測這波段的漏光一定要用能感測這波長的偵測器，也就是IR detector(IR CCD)，用 IR CCD裝置量測矽光子就是汎銓的專利範圍。
對此，柳紀綸籲光焱積極面對法律問題，若無法收光就無所謂的新技術舊技術問題，與侵權專利爭議無關。
汎銓強調，公司長期深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術領域，相關核心技術係投入大量研發資源所累積之成果。「光損偵測裝置」為本公司重要關鍵技術之一，已取得台灣、日本及美國發明專利，並實際應用於矽光子元件光損量測與定位分析，在高速光通訊、AI及光電整合等應用領域具備高度技術價值與產業重要性。
對於光焱科技所發布之相關聲明，本公司基於尊重司法程序原則，不就個別技術爭議或其單方面說法進行逐一回應。關於雙方技術差異、是否構成專利侵權，以及相關專利權利範圍之認定，均屬專業法律與技術判斷範疇，應回歸智慧財產及商業法院依據具體事證進行審理。汎銓呼籲相關當事人以誠實態度面對司法程序。
本公司提起本次訴訟，係基於維護自主研發成果與智慧財產權之正當權益，亦是對台灣整體科技產業之價值與重要性，以及全體股東與利害關係人負責之必要行動。汎銓一向重視技術創新與智慧財產保護，並致力於建立健全之產業競爭環境，期望透過合法途徑確保技術成果不受不當侵害，以樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密上採最高標準捍衛的決心與努力。
汎銓重申，相關爭議已正式進入司法程序，後續將尊重法院審理結果，並依法保障公司及全體股東之合法權益。