美調整對中晶片設備法案，仍鎖 ASML DUV
美國國會持續推進對中國半導體設備管制。根據《路透社》報導，美國眾議院提出的「MATCH 法案」最新版本已縮減部分限制內容，但仍保留對荷蘭設備大廠 ASML 深紫外光（DUV）浸潤式微影設備的對中限制，並持續針對中芯國際、長江存儲與長鑫存儲等中國晶片廠設下供應門檻。
該法案於 4 月 2 日由共和黨眾議員 Michael Baumgartner 提出，並獲跨黨派支持。其核心目標在於填補現行對中晶片設備出口管制的漏洞，同時推動美國與日本、荷蘭等主要設備供應 國的政策一致性，以維持美國在人工智慧領域的技術主導地位。
相較於 4 月初引發產業強烈反彈的初版，最新版本已刪除多項爭議性條款，包括原先對整個中國實施的低溫蝕刻設備限制。當時業界批評該法案範圍過廣，甚至被形容為「失控列車」，恐迫使盟友全面配合美國政策，並衝擊設備商的出口與營收。
不過，修正版仍保留關鍵限制措施。根據草案內容，外國企業不得向被美方列為限制使用美國技術的中國半導體業者供應設備，涵蓋中芯國際、長江存儲與長鑫存儲。此外，針對相關設備的維修與服務，也需取得許可證，惟相關申請已不再採取「一律拒絕」（policy of denial）的審查政策。
值得注意的是，該法案亦對美國政府與盟友的協商進度設定期限，若未能在時限內完成政策對齊，美方將進一步單方面擴大管制措施。
美國自 2022 年實施大規模晶片出口管制以來，持續與荷蘭、日本協調設備限制政策，雖已取得部分進展，但美國設備商普遍認為競爭環境仍未完全公平。
中國方面則表達反對立場。中國駐美大使館發言人劉鵬宇表示，中方將密切關注相關發展，並強調反對美方以國家安全為由，推動對中國的技術封鎖。
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