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經濟部技術司SEMICON開展 秀29項科專亮點技術

青年日報

更新於 20小時前 • 發布於 21小時前
國際半導體展「SEMICON TAIWAN 2026」開幕,經濟部產業技術司設置「科技研發主題館」。(經濟部提供)

記者郭曉蓓/臺北報導

半導體年度盛事「SEMICON TAIWAN 2026」今(2)日在臺北南港展覽館盛大登場,經濟部產業技術司設置「科技研發主題館」,集結29項創新技術,瞄準先進封裝、AI資料中心電源管理、半導體檢測或製造設備等關鍵領域,展出先進封裝突破CoPoS雙面RDL製程技術、國產高壓碳化矽(SiC)功率模組等,展現臺灣半導體深厚的研發能量及產業鏈實力。

在展出亮點方面,工研院攜手山太士、永光化學、志聖工業、晶彩科技等多家材料設備大廠,開發應用於CoPoS之雙面RDL關鍵製程整合技術,控制基板翹曲度優於傳統10倍,可使線路結構堆疊更精確,並首創「晶片位移線路補正」技術,高精細3D串接線路,封裝設計彈性與良率更提升,已成功打入全球半導體龍頭供應鏈。

針對AI資料中心供電正轉向800 VDC架構,工研院整合開發出碳化矽(SiC)功率元件、功率模組、氮化鎵(GaN)內埋封裝技術,對應固態變壓器、儲能系統、太陽能變流器及雙向快充應用,已技轉或串聯同欣電子、尼克森電子、鴻揚半導體、茂矽電子,建立國產碳化矽元件供應鏈,更攜手群創光電推動氮化鎵次系統應用,帶動臺灣功率半導體供應鏈成長升級,串聯上下游的產研成果,也將一併於建構中的直流電網示範場域完成驗證。

半導體製程愈來愈精密,晶片表面許多肉眼看不見的立體微小結構,例如高度、間距,都必須快速又精準地量測。過去高階3D檢測多仰賴國外設備,但一次能看的範圍小、掃描速度慢,容易拖慢產線效率。「半導體晶圓3D形貌檢測技術」,打造國內首台陣列式干涉掃描模組,讓設備一次看得更廣、量得更快,檢測效率提升至傳統設備的4倍,量測精度可達10nm,約是頭髮直徑的萬分之一等級,讓先進封裝檢測更快、更準。

經濟部產業技術司司長郭肇中表示,根據摩根士丹利及SEMI國際半導體產業協會資料,受惠於AI產業爆發性成長,今年全球半導體總產值有望突破1兆美元,預估2030年達1.5兆美元。產業技術司近6年持續投入超過400億元進行前瞻研發,鎖定AI、矽光子、量子、先進封裝、化合物半導體等關鍵領域,推動晶片軟硬整合,晶圓製造國產化,並強化國際鏈結,以建立具韌性與全球可信賴的先進半導體供應鏈。

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