台積電2奈米機密外洩案偵結 檢起訴3名洩密工程師求處重刑
高等檢察署智慧財產檢察分署27日偵結台積電2奈米洩密案，查出工程師陳力銘轉任東京威力科創後為改善蝕刻機台，涉透過任職台積電的工程師吳秉駿、戈一平拍攝重製關鍵技術，依依「國家安全法」國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪、「營業秘密法」意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪等罪嫌等罪嫌起訴陳力銘等3人，全案預計下週移審智慧財產及商業法院。
根據智財分署新聞稿，陳力銘曾任台積電12廠良率部門工程師，離職後進入台積電的半導體製造設備供應商東京威力科創行銷部門。民國112年下半年至今年上半年間，陳力銘為替東京威力公司爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後俾利東京威力公司檢討改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。
台積電發覺異常後內部調查，懷疑有在職與離職員工非法取得關鍵技術與營業秘密，7月8日提出告訴。智財分署檢察官隨即指揮法務部調查局新竹巿調查站、資安工作站及北部地區機動工作站，於7月25日至28日間發動搜索，拘提與傳喚陳力銘、吳秉駿、戈一平等人到案，並向法院聲請羈押禁見陳力銘等3人獲准。
智財分署檢察官密集偵訊被告及證人，並分析電磁紀錄及證物後，檢方認定陳力銘、吳秉駿、戈一平犯罪事證明確。陳力銘涉犯營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪求刑5年，涉犯營業秘密法竊取營業秘密罪求刑3年，涉犯國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪各量刑8年，應執行有期徒刑14年。
此外，吳秉駿涉犯營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪求刑4年，涉犯國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪求刑7年，應執行有期徒刑9年；戈一平涉犯國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪，求刑7年。其餘未在押廖姓被告等3人，因未涉及域外使用，僅涉犯營業秘密法知悉或持有營業秘密，未經授權或逾越授權範圍而重製、使用或洩漏該營業秘密罪，台積電表明不提告，因此予以簽結。
檢方對陳力銘涉「意圖域外使用而竊取營業秘密」罪求刑5年、「竊取營業秘密」罪求刑3年、國家安全法「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」罪求刑8年，總共求刑14年；吳秉駿涉「意圖域外使用而竊取營業秘密」求刑4年、「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪」求刑7年，總共求刑9年；戈一平涉犯「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」求刑7年。