艾司摩爾：使用High-NA EUV機台生產的晶片 幾個月內就會開始出貨
晶片製造設備巨頭艾司摩爾（ASML）最新一代的「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）曝光機，遭到台積電表示目前太貴，還沒打算採用。但艾司摩爾執行長福克（Christophe Fouquet）週二（19日）信心滿滿地表示，使用High-NA EUV機台製造的晶片，預計「幾個月內」就會開始發貨到市面。
福克沒有具體說明是哪一家晶片廠商可能使用High-NA EUV開始量產晶片，不過，目前對High-NA EUV態度最積極的晶片巨頭是英特爾（Intel）。
在比利時安特衛普由研究機構imec主辦的論壇上，福克表示：「在接下來的幾個月裡，我們將會看到首批在記憶體與邏輯晶片領域的產品，開始在High-NA系統上進行曝光生產。」
福克說：「這些技術確實很昂貴，也需要經過驗證。但它們在設計之初，始終秉持著一個理念，那就是隨著時間，它們終將降低整體的曝光成本。」
先進晶片製造商對艾司摩爾這些能夠曝光印刷極微小線路的EUV機台需求極大，使艾司摩爾成為歐洲市值最高的上市公司。比起原本的EUV，High-NA EUV能夠曝光印出縮小66%的微細線路，就像是相機擁有更好的對焦功能。
但是作為艾司摩爾最大的客戶，也生產目前全球90%先進晶片的台積電，其副共同營運長張曉強近日表示，台積電在接下來的幾代晶片中仍將繼續沿用現有的EUV機台，因為台積電正持續透過創新的晶片設計來榨出技術進步，不需要依賴更細的線寬。
High-NA EUV機台一台的價格可能就要4億歐元（約147億台幣），比原有的EUV機台貴上一倍。
英特爾在準備採用High-NA EUV方面展現出最積極的態度，試圖藉此在晶片製程一舉超越台積電和三星電子。包括SK海力士在內的記憶體晶片製造商也已表示，他們有意願採用這項新技術。台積電並未排除使用該技術的可能性，只是目前與近期的未來還不打算採用這項新技術量產晶片。
福克指出，在人工智慧（AI）浪潮的推動下，預計未來幾年晶片銷售額，每年將保持20%的成長。
對於外界憂慮艾司摩爾機台產量可能變成晶片生產的瓶頸，福克向台積電與三星回敬打趣說，這兩家公司才是真正的瓶頸，台積電與三星應該要買更多的艾司摩爾機台，以生產更多的晶片。