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科技

第三代半導體未來之星,氮化鎵挾眾多優勢攻入快充、5G 市場

科技新報

更新於 2020年03月18日21:45 • 發布於 2020年03月18日16:50

三五族半導體「氮化鎵(GaN)」可說是現在當紅炸子雞材料,漢磊、穩懋、環宇等台廠紛紛搶進氮化鎵領域,台積電更在上月宣布與意法半導體合作切入氮化鎵市場,與此同時,聲稱性能更勝以往的氮化鎵充電器也出現在大眾眼前,到底它有什麼魔力?

氮化鎵是氮和鎵的化合物,除了是一種直接能隙半導體,同時也是第三代半導體材料之一。與第一代半導體材料矽、鍺,和第二代半導體材料砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)相比,列為第三代半導體材料的碳化矽(SiC)、氮化鎵具有更好的物理和化學特性,導熱性能更好,也具耐高電壓、高電流、高頻特性。

氮化鎵並不是新興材料,其實 30 年前就出現在發光二極體(LED)研究中,也是 2014 年諾貝爾物理學獎的重點,三位科學家以氮化鎵研發出高效又省電的藍色 LED,成功補上幾十年來只有紅光、黃光、綠光,缺一角的 LED 拼圖,最後使得 LED 白光照明成真。

而氮化鎵除了在 LED 領域發揚光大,現在也被認為能代替矽半導體,跨入射頻元件、電源轉換等電力電子領域,因為氮化鎵是種寬能隙半導體(wide-bandgap semiconductors,WBG),氮化鎵能隙為 3.2eV,是矽(1.12eV)的 3 倍,能隙越高、就越耐高壓,崩潰電壓可以達到 600V,還有著高飽和電子遷移速度、高熱導率、開關速度快等特點,因此挾帶眾多優勢的氮化鎵等寬能隙材料,將來可抵達矽到不了的境界。

且氮化鎵的寬能隙特性,使之元件阻性損耗小、效率高,相同電壓與電流下,氮化鎵元件尺寸可以做得更小。因此氮化鎵能符合電動車、消費性電子產品,以及 5G 射頻需求,這些也是大廠紛紛跨足氮化鎵領域的原因。

其中氮化鎵以基板區分的話,分為純 GaN 以及矽基板氮化鎵(GaN-on-Si)、碳化矽基板氮化鎵(GaN-on-SiC),集邦科技拓墣產研分析師表示,目前純 GaN 成本較為昂貴,純 GaN 2 吋要價 2,500 美元,現階段僅會應用在高階 LED 產品或是更高壓的產品,現在較常見的是在電力電子領域的 GaN-on-Si 以及 5G 射頻應用的 GaN-on-SiC。

台廠也沒有缺席

電力電子領域範圍廣泛,從智慧型手機的充電器、變頻器到大型發電廠設備,如何有效地控制和轉換電力相當重要,且 GaN-on-Si 電晶體比矽基金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)還要小,因此相對處理速度較快,而開關速度快也能提升整體電路的能源效率。

隨著氮化鎵磊晶技術的進步,氮化鎵也逐漸攻入充電器領域,目前中國 OPPO、小米、倍思也紛紛推出氮化鎵充電器,多提到可提高輸出功率、縮小體積與解決過熱問題。同時氮化鎵 GaN-on-SiC 也能應用在 5G 、軍事雷達、低軌衛星等射頻領域,因此高速發展的 5G、智慧化與聯網化都能帶來新機會。

惟目前 GaN 成本仍然較高,縱使氮化鎵電晶體及積體電路的製程跟矽基功率 MOSFET 相似,但 GaN-on-Si 與 GaN-on-SiC 多了一個磊晶步驟、製程條件也稍有不同,以性能來說,雖然 GaN-on-SiC 性能相對較佳,但價格大幅高於 GaN-on-Si,集邦科技拓墣產研分析師表示, 6 吋 GaN-on-SiC 約 1,200-1,300 美元, GaN-on-Si 6 吋則是落在 500 美元,

不過隨著製造製程的提升和成本的下降,未來氮化鎵有機會在市場占一席之地,集邦科技拓墣產研分析師認為,氮化鎵也不會完全取代矽半導體的地位,目前氮化鎵適用於 600V 以下應用,若不是高壓、高導電與導熱需求,傳統矽基 MOSFET 已足矣,傳統矽基半導體和新興第三代半導體將能相互補充與共存發展。

目前台廠在第三代半導體也沒有缺席,台積電已提供 6 吋 GaN-on-Si 晶圓代工服務,並宣布和意法半導體共同合作氮化鎵製程技術的研發;嘉晶 6 吋 GaN-on-Si 磊晶矽晶圓,也已經入國際 IDM 廠認證階段;漢磊投控集團的晶圓代工廠漢磊科則瞄準車用需求,已量產 6 吋 GaN on Si 晶圓代工。

碳化矽基板部分,雖然磊晶技術主要集中在碳化矽美國晶圓大廠 Cree 與日本 Rohm 手中,持市場領先,但這也是台灣代工新領域,台廠穩懋提供 6 吋 GaN-on-SiC 晶圓代工服務,而環宇也擁有 4 吋 GaN-on-SiC 產能,且 6 吋 GaN-on-SiC 晶圓代工產能已通過認證。

(首圖來源:shutterstock)

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