韓媒：三星美國泰勒晶圓廠3月測試EUV光刻機 加速2奈米GAA製程部署
外媒最新報導指出，南韓三星電子將於今年 3 月在美國泰勒一號工廠啟動 EUV 光刻機測試，隨後逐步導入蝕刻、沉積等設備，計畫下半年正式投產。
《韓國經濟新聞 (KED)》周一(19 日) 報導，為加速進度，三星已向德州政府申請工廠臨時使用許可，可在滿足消防與安全條件下在竣工之前先行運作，並派遣大量「王牌級」工程師駐場，以穩定良率。
報導指出，三星泰勒廠外觀跟一年前相比變化巨大，塔式起重機幾乎全撤，停車場停滿車輛。工地每日約 7000 人作業，六層辦公大樓已有 1000 人辦公，為投產做最後準備。
三星泰勒廠佔地約 485 萬平方公尺，超越三星的平澤廠與華城廠的總和，且僅用四年建成，速度快過南韓本土。
產能方面已有明確去向。去年 7 月，三星拿下特斯拉 165 億美元 AI5、AI6 晶片訂單，馬斯克曾稱該金額只是下限，實際產量有望比此數字高出數倍。
高通執行長安蒙亦透露，正考慮將下一代 AP 晶片交由三星生產。若客戶持續加碼，三星可能提前啟用尚在基礎施工的泰勒二號廠。該廠區定位為面向大型科技公司的擴展基地，預留土地最多可建十座廠，迎戰 AI 時代代工需求。
業界認為，三星成敗關鍵在於能否滿足特斯拉的嚴苛標準，一旦達標，美國科技巨頭有望能減少對台積電的依賴。
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