艾司摩爾：AI算力狂潮下的半導體設備霸主 壟斷護城河將提前鎖定上兆美元市值？
在全球 AI 熱潮席捲下，從 ChatGPT 到 Claude，從資料中心到智慧汽車，算力需求呈指數級爆發。支撐這場科技革命的底層硬體，AI 晶片與高性能儲存設備，其製造離不開極紫外光刻機 (EUV），而全球唯一能生產此機器的正是艾司摩爾 (ASML-US) ，這家總部設在荷蘭的公司正憑藉這一壟斷地位，成為 AI 算力產業鏈中最核心的受益者。
最新財報顯示，艾司摩爾第三季訂單金額達 54 億歐元，遠超市場預期，其中 EUV 訂單量創近七年新高，執行長富凱 (Christophe Fouquet) 更明確表態，到 2030 年，該公司年淨銷售額將從 2024 年的 283 億歐元增至 600 億歐元。
《智通財經》報導，目前全球科技巨頭正陷入一場前所未有的 AI 基礎設施軍備競賽。微軟、谷歌、Meta 等企業持續加碼資料中心建設，台積電、三星等晶片製造商加速擴張 3 奈米及以下先進製程產能，SK 海力士、美光則在 HBM 與企業級 SSD/DDR 領域加大投入，而這一切的核心驅動力，正是艾司摩爾的 EUV 光刻機。
EUV 光刻機透過將雷射聚焦於錫滴產生 13.5 奈米波長的極紫外光，能在矽晶圓上繪製出人類史上最複雜的電路圖案，是製造 7 奈米以下先進晶片的必備設備。
目前，全球高階光刻機市場幾乎被艾司摩爾壟斷，市佔率超過 90%，在 EUV 領域更達 100%。
艾司摩爾的強勁業績直接反映出 AI 算力需求的火熱，EUV 訂單在第三季創下七季來新高，印證了台積電、三星等客戶對先進製程產能擴張的迫切需求。
富凱在第三季財報電話會議上重申，AI 熱潮將推動該公司到 2030 年實現 600 億歐元年淨銷售額的目標，較 2023 年的 283 億歐元近乎翻倍。
資本市場對此也反應熱烈。自今年 9 月以來，艾司摩爾股價開啟上行通道，多次刷新歷史高點，美股 ADR 在 9 月創下 20 年來最佳單月表現，年內累計漲幅達 60%，9 月迄今大漲逾 45%。
艾司摩爾的壟斷地位並非偶然，而是數十年高強度研發投入與產業鏈協同的成果。
1990 年代，艾司摩爾聯合歐洲聯盟研發 EUV 技術，彼時日本競爭對手因成本高昂退出，艾司摩爾卻堅持投入，最終獲得英特爾、台積電、三星等晶片巨頭注資支持。經過十餘年攻堅，艾司摩爾在 2000 年代中期交付首台 EUV 原型機，並於 2018 年實現量產，徹底改變半導體製造格局。
如今，艾司摩爾正引領產業進入「High-NA（高數值孔徑）」時代。新一代 High-NA EUV 光刻機採用 0.55 數值孔徑鏡頭與非等倍率光學技術，可將電路尺寸推進至 2 奈米以下，進一步提升晶片性能。英特爾、台積電、三星已開始試驗此設備，富凱則預估 2027-2028 年將實現高產量製造。
此外，艾司摩爾已啟動更先進的「Hyper NA」技術研發，為下一個十年的晶片製造鋪路。
儘管技術領先，但發展仍面臨地緣政治與供應鏈的雙重壓力。一方面，美國主導的出口管制政策限制艾司摩爾向中國出售最先進的 EUV 及部分 DUV 光刻機。2023 年，中國曾是艾司摩爾最大市場，但受禁令影響，對中國客戶的設備銷售已落後最新技術八代。
另一方面，艾司摩爾的生產高度依賴全球供應鏈，尤其是德國蔡司的光學元件、美國通快的雷射系統等關鍵零件，任何環節的中斷都可能影響交付。
不過，富凱對此持樂觀態度。他表示，艾司摩爾透過與客戶深度綁定 (如派駐工程師優化量產良率)、保證設備可用性(成熟技術可用率超 90%) 以及與供應商長期合作，建構了難以複製的「技術 + 服務 + 生態」護城河。
伯恩斯坦分析師 David Dai 說：「艾司摩爾的模式不僅在於技術壟斷，更在於其與客戶共同成長的長期關係。」
華爾街普遍看好其長期前景。摩根士丹利、花旗等機構認為，AI 基礎設施投資浪潮將持續至 2030 年，規模恐達 3 兆至 4 兆美元，將推動 3 奈米及以下先進製程晶片與 HBM 儲存需求持續成長。
富國銀行強調，CPU/GPU 異構封裝 (如 CoWoS/EMIB) 普及將進一步推升 EUV/High-NA 光刻機、先進封裝設備的需求，艾司摩爾作為龍頭將充分受益。
世界半導體貿易統計組織 (WSTS) 預估，2025 年全球半導體市場規模將達 7722 億美元(年增 22.5%)，2026 年將進一步擴張至 9755 億美元(年增 26%)，其中 AI GPU 主導的邏輯晶片與 HBM 儲存將成為主要成長引擎。
在全球 AI 競賽愈演愈烈的今天，艾司摩爾不僅是半導體設備的供應商，更是算力時代的「科技基石」，其壟斷地位或許面臨挑戰，但短期內無人能撼動其在高端光刻領域的統治力。隨著 AI 算力需求的持續飆升，這家荷蘭巨頭的故事，也將繼續書寫新的篇章。
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