台積電2奈米洩密案》蝕刻設備每台上億 美日三大廠搶市占大餅
初次上稿08-28 23:19更新時間08-29 07:27
〔記者洪友芳／新竹報導〕晶圓代工龍頭廠台積電(2330)先進製程2奈米洩密案，檢方查出禍因來自設備廠工程師為了收集資料改善蝕刻製程設備引起；設備業界透露，台積電在先進製程進入「一個人的武林」，因應國際客戶對AI(人工智慧)晶片的旺盛需求，2奈米進入前所未有的大投資擴產，蝕刻是晶圓廠關鍵製程重要設備，一台高精密的蝕刻設備價格高達上億元左右，每座2奈米廠需求蝕刻設備超過百台以上，商機龐大，台積電採多元供應商策略，由美日三大廠分食大餅，為了爭取量產後續訂單，各家供應商需卯足全力改善設備，滿足台積電量產需求，才能贏得更高的市占率，可說競爭激烈。
根據本報記者訪查，台積電的採購策向來採多元供應，一則分散風險、二則可達議價效益，就半導體設備供應面，日商東京威力科創(TEL)在黃光製程微影塗佈／顯影機台設備市占率近100%，爐管設備市占率也達7-8成之多，在這兩大關鍵設備，東京威力科創(TEL)很佔競爭優勢，可說是台積電不可或缺的重要供應商，即使台積電想採多元採購的策略，至今仍沒有其他設備商可跟東京威力科創(TEL)一爭高下；但在蝕刻設備領域，東京威力科創(TEL)就面臨「三強鼎立」競爭局面。
台積電在2奈米蝕刻設備採購主要「三分天下」，三大供應廠商包括科林研發(Lam Research )、應用材料(Applied Materials)及東京威力科創(TEL)；設備業界人士表示，蝕刻設備又分前段的導體設備、後段的非導體蝕刻設備，科林研發主要供應前段蝕刻設備，應用材料涵蓋前後段，TEL較偏供應後段，台積電在先進製程進入「一個人的武林」，尤其2奈米更是獨霸全球，因應國際客戶對AI(人工智慧)晶片的強勁需求，台積電進入前所未有的一代製程大擴產，2奈米家族包括台灣規劃竹科2座廠、高雄投資5-6座，美國廠也將投產2奈米製程，因製程相當複雜，2奈米晶圓廠設備涵蓋數百站點。
業界人士分析，蝕刻是晶圓廠關鍵製程重要設備，主要用於去除晶片表面不需要的材料，以形成所需的電路圖案或其他微細結構；一台高精密的蝕刻設備價格高達3到4百萬美元(相當於新台幣上億元左右)，每座2奈米廠需求蝕刻設備超過百台以上，商機龐大，為了爭取量產後續訂單，各家供應商需卯足全力改善設備，滿足台積電量產需求，才能贏得更高的市占率，可說競爭激烈。
據了解，台積電有增加供應商需求，TEL欲從蝕刻後段設備延伸到蝕刻前段設備，也就是分食台積電前段的導體蝕刻設備訂單，但設備還需有改善空間，負責銷售之一的陳力銘可能心急也求工作表現，找很有交情的台積電老同事吳秉駿及戈一平協助，透過遠端登入台積電遠端資料庫系統，查看機密檔案並翻拍製造流程圖照片，作為改善蝕刻機台設備的參考依據，但拍攝太大量被台積電資安人員發覺有異，經內部調查並提告，高檢署經調查後，近日將陳、吳、戈共3人起訴。
檢方認為，此案涉及台灣產業命脈的國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，3人犯罪情節重大，對陳力銘依涉營業秘密法「意圖域外使用而竊取營業秘密」罪求刑5年、「竊取營業秘密」罪求刑3年、國家安全法「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」罪求刑8年，應執行刑14年；吳秉駿涉「意圖域外使用而竊取營業秘密」求刑4年、「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪」求刑7年，應執行刑9年；戈一平涉犯「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」求刑7年。
設備業界表示，半導體業過去發生不少洩密案，多屬離職跳槽到中國的公司，「帶槍投靠」而被告洩密，這次是工程師在職被告洩密卻首度動用到國安法，恐跟最先進製程2奈米有關。台積電先進製程攜手設備廠商共同合作開發是過去也常見的作法，但需引用圖檔改善設備則透過正式會議記錄或高層拍板決定，工程師動用個人關係取得大量資料較不尋常。
不過，從台積電回應、檢方起訴與TEL聲明來看，對台積電營運並無損失，目前資料也未外流到第三方，台積電與TEL合作關係影響恐有限，但TEL如何「賠罪」將有待觀察。