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三星COMPUTEX秀HBM5架構 宣布搶先出貨HBM4E樣品

鏡報

更新於 2天前 • 發布於 2天前 • 鏡報 謝承學
三星電子半導體事業部技術長Jaihyuk Song。(三星電子提供)

韓國半導體大廠三星電子於COMPUTEX 2026盛大參展,以「整合式AI半導體解決方案」為展示主題,展現橫跨記憶體、晶圓代工、邏輯晶片與先進封裝的「全方位解決方案」競爭力。近期AI產業競爭已從單一晶片延伸至涵蓋記憶體、儲存、封裝到熱管理等整體系統層級,三星身為全球唯一具備IDM(整合元件製造商)模式的廠商,在此次展覽中首度公開次世代HBM5架構與熱管理技術,同時宣布已開始向全球主要客戶出貨業界首款12層HBM4E樣品,全面搶攻次世代AI基礎設施市場。

在COMPUTEX 2026中,三星首度公開了次世代HBM解決方案HBM4E。HBM4E由三星最先進的第六代10奈米級DRAM製程(1c)核心晶粒,與三星晶圓代工4奈米製程的基礎晶粒結合而成。該產品在設計與製程上進行了全面優化,能穩定支援每引腳最高14Gbps的傳輸速度,未來效能更可擴充至16Gbps,達到最高4TB/s或每堆疊3.6TB/s的記憶體頻寬。此外,12層HBM4E提供48GB容量,較前一代提升30%以上,並可依客戶需求提供32GB(8層)至64GB(16層)的多種配置。透過先進的低功耗設計與優化封裝,HBM4E較前代提升了16%的能源效率,並改善14%以上的熱阻特性,能更有效地散熱,滿足大型語言模型與次世代AI系統的密集數據處理需求。

除了展出HBM4E,三星更前瞻性地首度亮相瞄準HBM5世代的核心熱管理架構技術HPB(Heat Path Block)模型。隨著AI加速器效能與記憶體功率密度快速提升,負責HBM與外部GPU之間超高速資料傳輸的D2D PHY(晶粒對晶粒物理層)已成為Base Die中的主要發熱來源。傳輸速度越快,產生的熱量就越龐大,因此控溫與散熱成為HBM5等高效能產品的關鍵競爭力。三星所開發的HPB技術,其結構設計是在D2D PHY區域額外配置一條獨立的熱傳導路徑,讓熱量能更高效地向外傳導與散發,藉此降低熱阻並提升運作穩定性。目前三星已在HBM4E的基礎上完成HPB技術驗證,並計畫從HBM5開始正式導入,這也是三星首次正式公開下一代HBM架構與熱管理技術的發展策略。

因應輝達的次世代平台,三星本次也特別展示了為Vera Rubin平台量身打造的AI全方位解決方案。在GPU方面展示了HBM4;在系統記憶體領域推出SOCAMM2 ;在儲存解決方案則介紹PM1763、PM1753與PM9D3a等針對AI工作負載最佳化的產品。其中,高效能的PM1763預計將搭載於NVIDIA VR200 GPU伺服器的本機SSD使用。三星計畫在初期樣品出貨與優化之後,配合客戶時程開始量產HBM4E,並持續深化與NVIDIA的合作,藉由橫跨記憶體、晶圓代工與先進封裝的完整布局,為蓬勃發展的AI市場確保穩定的半導體供應。

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