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中韓 HBM 技術差距「縮至 3 年」!傳長鑫存儲技術已達 HBM3

科技新報

更新於 06月04日11:43 • 發布於 06月04日11:43

隨著中國持續尋求突破美國對高階極紫外光(EUV)設備出口限制之際,AI 晶片帶動的記憶體需求激增,也為中國記憶體廠商創造擴大市占率的機會。市場消息傳出,在中國政府大力扶植下,中韓兩國在高頻寬記憶體(HBM)領域的技術差距已縮小至約3 年,而其中進展最快的企業便是長鑫存儲,該公司也計畫透過首次公開募股(IPO)籌集資金、加速擴張。

韓媒《首爾經濟日報》(Seoul Economic Daily)報導,中國在HBM3 技術已追上韓國記憶體大廠三星與SK 海力士。換言之,目前中國在記憶體技術落後韓廠約三個世代。

HBM3 主要用於輝達H100 AI GPU,而H100 也是最早受到美國出口管制、禁止銷售至中國市場的AI 晶片之一。消息人士透露,雖然目前良率仍是限制因素,但從技術能力來看,長鑫存儲已具備生產HBM3 的能力。

隨著中國政府大力支持長鑫存儲擴大產能,預計該公司到2026 年底HBM 月產能達30 萬片12 吋晶圓。

為了掌握AI 記憶體市場快速成長所帶來的商機,長鑫存儲已獲准推動IPO 計畫,預計籌資超過40 億美元,以進一步擴大產能並強化技術研發能力。但業界普遍認為,即使長鑫存儲已具備HBM3 技術,在良率、量產經驗、先進封裝生態系及客戶驗證等方面,與三星及SK 海力士仍存在明顯差距,未來能否真正打入全球AI GPU 供應鏈仍有待觀察。

(首圖來源:CXMT

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