使用ASML新機生產成本太貴 台積電：未找到非用不可的理由
台積電1.4奈米（A14）製程傳出可能使用艾斯摩爾（ASML）價值高昂的高數值孔徑極紫外光曝光機（High NA EUV ）生產，台積電業務開發資深副總裁張曉強週二在新聞發布會上回應，公司仍在評估當中，目前尚未找到採用High NA令人信服的理由。
根據路透報導，High NA EUV價值近4億美元（約台幣132億元），幾乎是晶圓廠當前最昂貴設備的兩倍，也是晶片製造廠中最昂貴的設備。當被問及台積電是否計劃將該機器用於即將推出的A14，以及未來製程的增強版本時，張曉強回答，尚未找到「非用不可」的理由。
張曉強說明，A14的增強技術在不使用高數值孔徑的情況下，效果非常顯著。因此，公司的技術團隊正繼續尋找一種方法，通過利用微縮優勢來延長現有低數值孔徑EUV機器的使用壽命。公司目前尚未找到「非用不可」的理由導入高NA機台。
張曉強強調，A14製程即便不使用高NA，仍能實現非常顯著的技術提升，只要繼續找到替代方案，就沒有必要用這台昂貴的設備。張曉強去年曾告訴記者，台積電不會在其A16製程上使用High-NA，他喜歡High-NA EUV這項技術，但不喜歡這個價格。
此外，報導提到，英特爾計劃在未來的製造流程（14A）中使用High-NA EUV機器，試圖重振該公司的代工晶片業務，並更好地與台積電競爭。不過，英特爾也表示，客戶仍然可選擇使用更老、更成熟的技術。
在ASML的最新收益報告中，ASML執行長富凱指出，他預計客戶將在2026年至2027年期間測試High-NA的大量生產準備情況，然後在後期在最先進的製程上評估使用該工具。到目前為止，ASML已向全球3家客戶包括英特爾、台積電和三星運送5台重達180噸的High-NA EUV雙層機器。