美國會擬推「Match法案」加碼對中科技圍堵！荷日盟友恐遭華府施壓
美國國會議員在上週提出的法案欲進一步限制中國取得先進晶片製造設備，標誌著華府在遏制中國半導體雄心方面的最新升級。分析人士指出，美方也正試圖讓荷蘭與日本等盟友在出口管制上與華府更加一致。
據《南華早報》的報導，這項《硬體技術管制多邊協調法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls in Hardware Act，簡稱Match Act），由共和黨聯邦眾議員鮑姆加特納（Michael Baumgartner）於上週提出，目的是透過要求盟國在150天內跟進美國對中國半導體設備出口的限制，以填補現有管制中的「關鍵漏洞」。
中國證券分析師8日在1份研究報告中指出，該法案獲得跨黨派支持，且美國參議院也有配套法案，這顯示其通過機率相當高，並可能為全球半導體供應鏈帶來重大衝擊。
專注出口管制事務、總部位於上海的「協力律師事務所」（Co-Effort Law Firm）律師Mark Shi表示：「這項法案在國會層級通過的可能性相對較高。」不過，他也補充，鑑於當前中美緊張局勢，這項法案也可能成為雙方的「天然談判籌碼」。
若法案正式生效，將禁止出口其所稱「最關鍵」的半導體製造設備，包括用於先進與成熟製程晶片生產的「深紫外光浸潤式微影系統」（deep ultraviolet，DUV）以及低溫蝕刻設備。這將明顯升級現行管制措施。此前，美國的限制主要集中於阻止中國取得「極紫外光微影製程」（extreme ultraviolet，EUV）設備，以及部分DUV系統。
這項提案已提高全球主要設備供應商面臨的不確定性，尤其是荷蘭曝光機大廠「艾司摩爾」（ASML Holding N.V.）與日本「東京威力科創」（Tokyo Electron），2家公司都高度依賴中國市場。對此，Mark Shi表示：「一旦實施，艾司摩爾的曝光機與東京威力科創的蝕刻設備都將被納入美國出口管制範圍。」
艾司摩爾是全球唯一能供應EUV系統的企業，而這類設備是生產全球最先進晶片的關鍵。自2019年起，艾司摩爾即被禁止向中國出售此類設備。到了2023年，限制進一步擴大至部分DUV設備，也就是次先進的微影製程技術。
在更廣泛的中美科技衝突背景下，艾司摩爾已在其最大市場中國遭遇逆風。2025年，中國市場占艾司摩爾全球銷售比重由前1年的41％降至33％。該公司預期，隨著現有限制措施壓縮先進設備出貨，加上此前需求激增後其他機型需求趨緩，這一比例將在2026年進一步降至約20％。
如今，《Match Act》提高了更迅速脫鉤的可能性。中國證券分析師表示：「過去，美國已嚴格管制先進半導體設備對中國出口。雖然日本與荷蘭也推出相關措施，但嚴格程度仍不及美國。」他們指出，曝光機仍將是中國必須推動自主化的關鍵領域。
《Match Act》也將矛頭指向中國主要晶片企業，包括晶圓代工廠「中芯國際」與「華虹半導體」，以及記憶體製造商「長江存儲」與「長鑫存儲」。法案將這些企業及其關聯公司列為「受管制設施」（covered facilities），使其面臨全面性的出口禁令。
與此同時，分析人士也警告，要讓盟國出口管制與美國完全對齊，實際上可能困難重重。協力律師事務所的Mark Shi指出，根據荷蘭政府過去2年的立場，國內對採取華府單邊做法存在「相當大的政治阻力」；而日本自2023年以來也面臨類似摩擦。
他補充，法案提出的150天期限，是否足以實現有意義的政策協調，仍存在不確定性，而這個期限可能更多是為了「製造壓力，而非真正解決問題。」