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台積電秘密武器/新商標亮相!接棒CoWoS的CoPoS是什麼?

鏡報

更新於 2天前 • 發布於 2天前 • 鏡報 謝承學
台積電下一代先進封裝CoPoS正式浮上檯面。

台積電下一代先進封裝技術CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)商標曝光!從智慧財產局的最新公告可以發現,台積電已經申請名為「TSMC-COPOS」的商標,隨著AI晶片愈做愈大,CoWoS已經無法完美滿足客戶需求,台積電也加緊CoPoS的開發。

台積電CoPoS技術正式浮上檯面,不僅台積電董事長魏哲家首度透露,台積電已經建立試產線,不過還需要2到3年的時間,該技術才會迎來真正爆發性的大量生產。同時,智慧財產局網站上也悄悄揭露接棒CoWoS的秘密武器CoPoS的商標,讓這項秘密武器逐漸被看見。

智慧財產局網頁顯示,不就「COPOS」文字主張商標權,推測只有「TSMC-COPOS」才會是被保護的商標。

台積電所申請的「TSMC-COPOS」商標。(翻攝自智慧財產局)

在未來的AI與高效能運算(HPC)晶片設計中,晶片與封裝體積正朝向極大化發展,台積電為了因應超大尺寸晶片需求正積極加速開發名為CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)的面板級先進封裝技術。

業界分析,這項「化圓為方」的技術核心在於突破傳統矽中介層的光罩尺寸極限,透過引進300mm與500mm的方型面板級製程,提供更大規模的大面積RDL封裝空間。此舉不僅解決了超大型晶片在傳統晶圓級封裝面臨的尺寸瓶頸,更能大幅改善材料利用率。

業界比喻,就像是用圓形的烤盤烤方形的蛋糕,四個角都會有部分空間被浪費,CoPoS就像是直接將烤盤換成方的,大幅減少浪費。

根據調研機構數據,相較於300mm晶圓封裝僅45%的面積效率,300x300mm的方型面板能將面積效率顯著提升至約81%,在生產大於9.5倍光罩尺寸的超大晶片時,具備極高成本優勢,成為未來整合大量大型晶粒(Dies)的關鍵技術支援。

然而,CoPoS在技術層面與製程熟度上仍面臨部分挑戰。與現行已高度成熟的CoWoS封裝相比,CoPoS在整體產業生態系的建構以及大規模可製造性上尚未完全成熟,也意味著初期將伴隨較高的技術執行風險與良率挑戰。

業界預期CoPoS將與其他先進封裝技術進行混合搭配,例如以SoIC技術進行晶片的垂直堆疊,再利用CoPoS進行水平方向的大型整合,以達成效能與成本的最佳平衡。

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