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日本大咖:中國半導體缺研發經驗 中芯最先進製程是台灣8年前的技術

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更新於 2022年05月31日14:43 • 發布於 2022年05月31日14:01 • 羅苑韶
前後在日本和中國半導體產業擔任高階主管的坂本幸雄。(資料照片/美聯社)

曾於2019至2021年擔任中國紫光集團高級副總裁的坂本幸雄表示,中國長鑫存儲技術公司生產的DRAM與三星相比落後4代左右。中芯國際産品當中最細電路線寬也只是14奈米,這已是7、8年前的技術,台積電現正開發2奈米的産品。

坂本幸雄接受日經中文網訪問,被問到中國與世界頂尖水平的差距有多大,他指出,中國長鑫存儲技術(CXMT)在DRAM領域較三星落後4代左右。而NAND記憶卡領域,據稱中國頂尖的長江存儲科技(YMTC)將啟動儲存元件為128層的量産,雖啟動192層的試生産,但製造的數量過少,還不到談論競爭力的水平。

第四代雙倍資料率同步動態隨機存取記憶體

中國長鑫存儲技術(CXMT)生產的動態隨機存取記憶體。(取自公司官網)

另外,在運算用邏輯晶片領域,中芯國際産品的最細電路線寬還只是14奈米,這已是7、8年前的技術。由於美國的制裁,中芯尚難引進尖端的生産設備,無法涉足高價值的處理器尖端領域。經營資源完全被用在增加14奈米以上的産能,如果缺乏在3、4年後追上台積電等龍頭企業的決心,差距會不斷擴大。

他表示,中國半導體生産達全世界15%。不過,其中英特爾等外資企業占6成,中國企業僅占4成。

協助中國半導體産業發展的出身台灣的人才,多為改善成品良率等方面的技術人才。中國缺乏從零開始創造價值的研發經驗,台積電和三星電子在技術實力上領先,他們都保持工序管理和研究開發工程師的平衡,應客戶要求確定半導體的功率等目標,開發電路設計和製造流程。

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