從稱霸到瀕危！日本光刻機巨頭Nikon逐漸衰敗的三大致命失誤
2026 年初，日本百年光學巨頭尼康 (Nikon) 發布 2025 財年預虧 850 億日元，創史上最大虧損紀錄，尤其令人觸目驚心的是，過去半年尼康光刻機僅賣出 9 台，且幾乎全為成熟製程設備，遠遜於艾司摩爾同期高端 EUV 光刻機 160 台出貨量，這一表現也反映出昔日霸主在半導體核心戰場的全面潰敗。
《華商韜略》報導，1980 年代，尼康曾同時稱霸專業相機與半導體光刻機兩大領域，其光刻機精度被形容為「在富士山頂精準命中東京街頭的縫衣針」，英特爾、IBM 等晶片巨頭曾派團隊常駐尼康矽谷分部爭取供貨權。當時尼康壟斷全球光刻機市場半壁江山，而艾司摩爾尚是夾縫求生的小玩家，但傲慢與封閉最終讓尼康付出沉重代價。
2002 年成為命運轉折點，台積電資深處長林本堅帶著浸沒式光刻機方案敲開尼康大門，卻遭時任會長吉田莊一郎和技術負責人馬立稔和的斷然拒絕，尼康高層質疑「水浸鏡頭」會污染精密光學系統，更不願放棄已投入 7 億美元的 157 奈米乾式光刻機研發。
尼康高層甚至致電台積電要求「管好林本堅」，但這個被尼康拒於門外的創意，最終在艾司摩爾技術靈魂范登布林克手中開花結果。
2004 年問世的浸沒式光刻機橫掃市場，尼康從此失去高端市場主導權，受挫後的尼康將希望寄託於 EUV 極紫外光技術。時任技術掌舵人馬立稔和啟動「全自研、全日本產」計畫，獲得日本政府數百億日元支持，聯合佳能、東京電子等企業發起「產官學」攻關。
但這場典型的日本式衝鋒卻陷入閉門造車的困境，艾司摩爾透過引入英特爾、三星、台積電戰略投資，整合德國蔡司鏡頭、美國 Cymer 光源等全球頂尖資源，而尼康因美國技術封鎖被排除在 EUV 聯盟之外。
到了 2018 年，尼康投入逾千億日元的 EUV 項目僅產出無法商用的原型機，最終被迫終止商業化開發。
兩次關鍵技術路線的選擇失誤，讓尼康墜入深淵。去年 9 月，尼康關閉營運 58 年的橫濱工廠，標誌著光刻機業務進一步萎縮。70 歲的馬立稔和即將卸任，這位見證尼康興衰的老將，終未能挽回昔日榮光，如今 ASML 已絕塵而去，中國光刻機勢力又加速蠶食中低端市場，尼康在夾縫中艱難求生。
尼康的潰敗是日本產業「加拉帕戈斯化」的典型縮影：對自身技術實力的過度自信，對外部創新的排斥，以及全產業鏈閉環的執念，使其在科技變革浪潮中淪為孤島。
尼康從當年行業標準制定者，因拒絕給林本堅一張試驗台而錯失時代機遇，這個充滿悲劇色彩的故事警示世人：在殘酷的科技競賽中，最危險的並非技術落後，而是傲慢與封閉的心態。
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