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三星混合鍵合 HBM 延至 2029 年,瞄準輝達 Feynman 平台一次亮相

科技新報

更新於 2天前 • 發布於 2天前

隨著高頻寬記憶體(HBM)持續朝更高堆疊層數與更高頻寬演進,市場普遍視混合鍵合(Hybrid Bonding)為下一代HBM 關鍵封裝技術。不過韓國業界消息傳出,三星可能將混合鍵合HBM 大規模量產時程延後至2029 至2030 年,並與NVIDIA 下一代Feynman AI GPU 平台同步導入。

混合鍵合技術將移除HBM 堆疊中各層DRAM 晶片之間的微凸塊(Micro Bump),改採銅對銅(Cu-to-Cu)直接鍵合,可大幅縮短晶片層間距離,進一步提升頻寬、降低功耗與改善散熱,因此被視為關鍵技術。

消息人士指出,三星評估混合鍵合真正具備成熟量產條件的時間點,將落在2029 至2030 年,預計搭配NVIDIA Feynman AI GPU 一同推出。

Feynman 是NVIDIA 接棒Rubin Ultra 的下一代AI 平台,先前輝達已透露,該平台將採用3D 堆疊架構,由英特爾負責部分先進封裝,並搭載客製化高頻寬記憶體(Custom HBM)。市場推測,Feynman 可能採用HBM5 或基於HBM5 發展的客製化版本。

據悉,三星最快將於今年底開始在平澤廠區安裝混合鍵合設備,但初期主要用於技術驗證與產線建置,真正量產仍需等待2029 至2030 年。

先前也有報導指出,混合鍵合最快從HBM4E 開始導入,而非更早世代產品。據悉,三星目前正向荷蘭半導體設備商貝思半導體(BESI)採購約50 台混合鍵合設備。但三星希望設備能客製化,不排除評估韓國本土設備廠採購的可能性。

至於客製化HBM,是在3D 系統級封裝(SiP)架構下,以客戶自有的邏輯晶片(Logic Die)取代傳統HBM 的Base Die,使記憶體與運算晶片整合更加緊密,進一步提升AI 運算效率與系統效能。

值得注意的是,近期傳出JEDEC 正研議放寬HBM 封裝厚度規範,使HBM4E 仍可沿用既有熱壓鍵合技術,降低業者短期內導入混合鍵合的迫切性。三星與SK 海力士等大廠都可能將混合鍵合全面商用的時間點延後至HBM5 世代,以與輝達Feynman AI GPU 問世相吻合。

(首圖來源:三星

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