進度成謎！傳上海微電子成功開發 28 奈米曝光機，不久原出處遭刪

上海張江集團日前在微信平台上發文稱，上海微電子（SMEE）成功研發出 28 奈米曝光機，但不久上述文字已經刪除。

據彭博社、香港 01 報導，上海張江集團 19 日在微信公眾號「你好張江」發文稱，「作為國內唯—一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子已成功研製出 28 奈米光刻機」，但不久後便對文字進行修改，改為「作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子致力研製先進的光刻機。」

張江集團是上海微電子的第四大股東，消息傳出後，張江集團股價飆升 8%。

外媒 Tom’s Hardware 報導稱，上海微電子成功研發 28 奈米曝光機，意味著中國不斷縮小與全球晶片產業的技術差距，但目前不清楚上海微電子何時能量產這些設備，且現在文字遭到刪除，能否成功量產又再度成謎。

台積電自 2011 年起採用 28 奈米製造晶片，中芯國際則是 2015 年，兩間公司都選擇艾司摩爾（ASML）的設備來製造晶片。

由於美國祭出晶片限令，防止中國獲得最先進半導體技術，因此上海微電子被視為是中國與 ASML 抗衡的最佳希望。去年美國商務部將上海微電子加入黑名單，也試圖施壓荷蘭政府，禁止 ASML 出口關鍵設備至中國。

據悉，上海微電子這款曝光機名為 SSA/800-10W，代表公司的重大突破，因為其現有的 SSA600 系列機器能採用90 奈米、110 奈米和 280 奈米製程技術，而該公司最新設備有望拉近與 ASML 間的差距，最初差距至少落後約 20 年。

28 奈米雖說是成熟製程，但對智慧手機和電動車等產品仍重要，美國和歐洲官員也越來越擔心中國成熟製程的發展，並討論是否該祭出新策略來抑制。

（首圖來源：shutterstock）

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