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全台唯一量產CMP研磨墊!頌勝花20年從做鞋墊殺進半導體供應鏈,靠的是什麼?

數位時代

更新於 7小時前 • 發布於 7小時前

「我們從一般的PU傳統產業,轉型到做醫材,然後轉型到半導體材料,這是最重要的一個里程碑。」頌勝董事長朱明癸表示,由傳統PU產業,切入高技術門檻的CMP研磨墊市場,成功翻身的頌勝科技於去年正式興櫃,今年即將上市,他們是怎麼做到的?

頌勝於1986年成立,起初著重於化工原料(PU發泡料)製造,生產商品如鞋墊、運動滑板等。2002年開始切入半導體領域,成立智勝科技,專注CMP研磨墊(Hard Pad)與相關耗材開發,成為台灣唯一量產並打入半導體供應鏈的CMP研磨墊供應商。

CMP研磨墊產品應用於晶圓製造、IC製造與先進封裝等關鍵製程。總經理楊偉文表示,CMP研磨墊2024年全球市場占比約3.6%,長期目標是提升至10%,持續擴大在國際供應鏈中的角色。

頌勝的研磨墊可使用於再生晶圓/晶圓基板、邏輯/記憶體製造與先進封裝。

頌勝2025年合併營收達新台幣19.81億元,年增3.07%,稅後淨利1.91億元;EPS 3.24元。目前半導體相關營收占比達61.74%,已成為主要成長動能。經營團隊表示,隨著先進製程與先進封裝需求帶動,今年半導體營收占比可望持續提升,產品組合優化也有機會推升整體毛利率。

什麼是CMP研磨墊?CMP研磨墊過去為什麼被國外廠商壟斷?

CMP全名為化學機械平坦化/研磨(Chemical-Mechanical Polishing/Planarization),是晶片製造過程中,用來把晶片表面「磨平」的一項關鍵技術。藉由結合化學反應與機械研磨,移除晶圓表面的高低差,使其達到奈米級平整,這在邏輯晶片與記憶體製造中都是不可或缺的關鍵步驟。

楊偉文表示,晶圓的每一層電路都需要經過CMP處理,否則地基不穩會影響後續堆疊結構;此外,由於每一層都需要進行微影曝光,如果表面不平坦,曝光對焦會失準,進而影響電路良率。

隨著先進製程與先進封裝的發展,CMP的重要性持續提升。一方面是製程微縮,對平坦度與材料去除精度要求大幅提高;另一方面是晶片結構變得更複雜、層數增加,使得CMP次數顯著上升。

根據元大證券研究報告指出,由FinFET轉向GAAFET架構,單一晶片所需的CMP次數,將由過往約10次增加至50次以上,使CMP從過去的輔助製程,轉變為影響良率與性能的關鍵環節。

晶圓製造的多項節點都需要使用到CMP技術。

CMP實際運作涉及四大要素,包括研磨液、研磨墊、鑽石碟與晶圓本身。晶圓、研磨墊與研磨液直接接觸,進行材料移除,鑽石碟則用於修整研磨墊表面狀態。由於製程高度耦合,四個要素之間必須精密匹配,也正因如此,CMP產業門檻極高。

研磨墊不僅需要長時間客戶驗證,且更換成本高,廠商之間黏著度強,使市場長期由少數國際大廠主導。包括美國的啟諾迪(Qnity,由杜邦分拆)、英特格(Entegris),以及日本的富士紡(Fujibo)等,形成高度寡占格局。

延伸閱讀:從網球拍進軍晶圓代工大廠!頌勝靠一塊「研磨墊」成功轉型,打入CoWoS供應鏈

頌勝如何打破國外廠商的壟斷?技術優勢在哪?

楊偉文表示,頌勝的產品需為客戶帶來至少30%的效益提升,才有機會導入量產,並透過原料配方、設計與製造的一條龍能力,建立差異化競爭優勢。整體技術核心可歸納為三大面向:

1. 材料配方能力: 頌勝以PU材料為基礎,針對不同製程節點與應用場景進行客製化設計,楊偉文指出:「客戶只要告訴我們使用的研磨液與鑽石碟條件,我們可以從既有資料庫中快速調整出適合的配方。」

2. 發泡與製程技術: 研磨墊內部孔洞的大小、分布與均勻性,會直接影響研磨效率與穩定性;相較於部分競爭對手採用先發泡再切片的方式,頌勝採用單片成形的發泡製程,並透過氣體控制孔隙結構。

3. 溝槽設計: CMP過程中需持續供應研磨液,溝槽結構會影響流體分布與排除效率。透過設計優化,能在維持研磨效果的同時降低研磨液用量,進而降低整體製程成本。

研磨墊表面有特殊溝槽,方便收集、使用研磨液。

除了既有研磨墊產品外,頌勝今年也將重點投入拋光墊(Soft Pad)市場,預計第二季開始送樣與驗證。楊偉文指出,拋光墊主要用於最終表面修整,產品標準化程度較高,未來應用範圍也不僅限於IC與記憶體,具有市場潛力。朱明癸則表示,隨著拋光墊日系廠商上調價格,市場出現替代機會,預期台灣的拋光墊需求成長速度將加快。

在產能布局方面,頌勝的中科新廠緊鄰台積電2奈米基地,預計今年底準備完成,明年開始量產。目前也在調整既有廠區的生產量能。

延伸閱讀:玻纖布是什麼?為什麼最近大缺貨?玻纖布用途、概念股一次看

未來發展與挑戰

在地緣政治影響下,半導體材料供應鏈出現重組。目前國外半導體營收美國(服務台系客戶)與中國市場兩者比例將近,但預期今年中國市場占比將提升,主因在於當地客戶導入速度較快、政策推動力強。經營團隊表示,研磨墊過去長期由美國與日本廠商主導,由於頌勝於中國合肥、蘇州皆已設有公司與廠房,且中國市場正積極推動在地化替代,因此地緣政治問題對頌勝而言為利多。

至於美國市場,面對材料在地化需求,頌勝表示將依客戶需求持續調整布局,目前透過德鑫半導體聯盟支援美國市場,同時也評估未來是否設立當地據點,並朝智慧製造方向發展,以強化長期競爭力。

此外,經營團隊也提到CMP研磨墊的未來技術挑戰包括FOPLP(面板級封裝)。由於目前CMP主要針對圓形晶圓設計,若轉向方形基板,將對研磨均勻性與設備設計帶來新的技術門檻。

頌勝經營團隊。

頌勝旗下除了專注CMP材料的智勝科技外,亦有生產健康鞋墊的久陞昌。目前整體營收組成為半導體研磨墊與耗材約62%、醫療與運動產品約31%、其他約8%。

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