離職工程師竊台積電2奈米機密 竟只為改善東京威力蝕刻機良率
〔記者王定傳／台北報導〕護國神山「台積電」2奈米國家核心關鍵技術外洩案，高檢署智財分署查出，東京威力科創是台積電其他製程蝕刻機台供應商，想切入2奈米製程，因此以測試方式尋求蝕刻機站點供應資格，但測試最終失敗，轉到東京威力科創工作前台積電工程師陳力銘，遂找上過往同事、台積電現任工程師吳秉駿及戈一平，透過遠端登入台積電遠端資料庫系統方式，查看機密檔案並翻拍多張照片，藉此改善蝕刻機台表現等，其中有10多張照片涉核心機密，高檢署今將陳、吳、戈3人起訴。
本案是由高檢署智財分署主任檢察官鄭鑫宏、檢察官劉怡君、黃正雄及朱立豪，指揮調查局新竹巿調查站、資安工作站及北機站共同偵破。
檢方調查，陳嫌曾擔任台積電12廠良率部門工程師，離職後至東京威力科創行銷部門任職，他涉從2023年8月至今年中旬，涉以過往同事身分找上並說服吳、戈2人，在吳、戈2人住處或餐廳，透過遠端登入台積電資料庫方式，以手機翻拍機密資料，其中10多張涉核心關鍵機密；後因台積電察覺有異，展開內部調查並於今年7月8日向高檢署提告。
檢方獲報後於7月25日至28日指揮調查局發動多波搜索及約談行動，訊後將陳嫌等3人聲押禁見獲准；據悉，3人均坦承犯行，並爭取希望依國安法減刑。
檢方認為，本案事涉我國產業命脈的國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，3人犯罪情節重大，對陳力銘依涉營業秘密法「意圖域外使用而竊取營業秘密」罪求刑5年、「竊取營業秘密」罪求刑3年、國家安全法「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」罪求刑8年，應執行刑14年；吳秉駿涉「意圖域外使用而竊取營業秘密」求刑4年、「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪」求刑7年，應執行刑9年；戈一平涉犯「國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用」求刑7年。
檢方並表示，已分案續查是否有法人及自然人涉有相關刑事責任。此外，本案另有3名被告涉營業秘密法告訴乃論刑責，因台積電表明不提出告訴，檢方因此予以簽結。
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