中國逆向工程 ASML DUV 曝光機，拆壞了還要求原廠協助
美中兩大強權在人工智慧（AI）領域的主導權競爭日益白熱化，高階晶片已成為這場新冷戰的核心戰場。自2018年美國對中國實施嚴厲的晶片銷售制裁以來，已對中國的高科技發展造成了真實且深遠的影響。根據近日的一項報導揭露，中國在對荷蘭 ASML 公司生產的曝光設備進行逆向工程時，疑似造成設備損壞，最終不得不向原廠尋求技術支援。
The National Interes專文報導，此事不僅生動顯示美國晶片禁令殺傷力，更突顯儘管中國經濟和技術努力追上美國，但極度複雜的半導體製造領域，要完全自主仍有漫長而崎嶇的路要走。
專文表示，中國實力的重要部分，源於其不斷發展的高科技產業，這在很大程度上受惠於其進步的製造能力。然而，這種迅速追趕西方的模式，其方法卻不那麼「令人欽佩」。因為，中國的高科技和製造業生態系統之所以能夠存在，是因為美國和西方世界過去曾將大量的製造能力轉移至中國所致。
本質上，中國成為「世界工廠」後便迅速向上發展，建立了一個能與美國匹敵的高科技生產生態系統。然而，如同學者 Oded Shenkar 在其著作中所指出的，中國經濟的整個基礎是建立在透過盜竊，或複製更先進、更具創新性的國家和外國公司，從而大幅縮短漫長且繁重的開發週期的基礎之上。先前，台灣出生李開復也曾解釋，中國本土科技公司之間也存在著相互竊取和抄襲的現象。這種只顧結果的文化，唯一的目標是創造出能擴大公司利潤、增強國家聲望，以及建構國家安全的新技術和產品。
由於中國透過複製西方的科技能力來啟動其充滿活力的本土產業，使得其發展模式也在面臨地緣政治危機時留下了嚴重的瓶頸。自2018年以來，美國對中國發動了被稱為「科技戰」的行動，這是美國對中國更廣泛貿易戰的一部分。美國實施了針對高階晶片的銷售制裁。做為反制，中國則對稀土礦物實施了嚴格的出口管制，這些礦物對於製造晶片和其他重要的高科技產品，特別是美國軍事技術至關重要。
然而，美國對晶片的禁令對中國的高科技發展產生了實質的後果。在全球兩大強權爭奪人工智慧（AI）主導地位的競賽日益激烈之際，這些高階晶片禁令複雜化了中國跟上美國的能力。更重要的是，美國的晶片禁令實際上凍結了中國可靠的發展自身高階晶片的能力，使其只能使用較舊、面積較大的晶片。全球製造晶片所需、極為昂貴且複雜的晶圓製造設備-微影曝光機，主要由荷蘭ASML公司生產。由於美國的制裁，中國只能被限制使用較舊的ASML深紫外曝光設備（DUV），這嚴重阻礙了中國在AI創造方面超越美國的能力。
為了突破美國的技術封鎖，有消息指出，近幾個月來，中國一直在嘗試對ASML DUV曝光機進行逆向工程。他們此舉的目的，並不是為了大規模生產這些舊型機器。相反，中國的技術人員試圖藉由了解機器的複雜內容，來達到設備的本土複製。更重要的是，藉此開發出更先進的本土曝光設備，進一步生產被美國拒絕提供的新型且更先進的晶片。
然而，逆向工程光刻機這類設備，不像複製大多數工業設計那樣直接。消息指出，在中國拆卸其中一套舊型ASML系統的過程中似乎損壞了該機器，這促使他們聯繫ASML尋求維修協助。而且，當ASML技術人員抵達中國後，他們很快發現，這台機器並非是單純故障，而是因為中國試圖拆卸和重新組裝它而導致的損壞。此事件有力地證明了美國晶片禁令對中國造成的壓力。但同時也顯示，美國不能僅僅依靠晶片禁令來將中國永遠甩在後面。
雖然，中國在關鍵的技術和經濟領域已經追趕上了美國，這對兩國之間的整體權力平衡產生了實質性的影響。但試圖逆向工程ASML DUV曝光設備，最後卻導致其受損的事實表明，這項任務對於中國來說是何等的重要。
然而，這也表明北京還有很長的路要走。如果缺乏對所涉及精度的深刻理解，試圖逆向工程ASML曝光設備，最終的結果可能是損壞昂貴的設備，而非學會如何製造更先進的系統。因此，只要中國持續威脅美國，特別是只要中國繼續維持稀土礦物出口管制，晶片禁令就會持續。所以，中國繼續進行對DUV 曝光機的逆向工程幾乎也不會停止。最後，其結果皆會如何發展並影響美中兩國的競爭，就值得持續觀察。
(首圖來源：ASML)