中國曝光機大躍進？傳成功生產7奈米　專家曝「開闢全新技術」可期：超越ASML

上海新創公司宇量昇打造曝光機並生產7奈米晶片，9月傳出初步測試結果正面，尚未得知何時將能晶片量產。而宇量昇為中國華為體系的半導體設備製造商，對此，科技力智庫執行長烏凌翔於YouTube頻道《烏鴉笑笑》中，引述中國消息來源指出，宇量昇共生產3座曝光機，並分別交付予3家晶圓廠座調整測試。

烏凌翔表示，中國許多大專院校及科研單位，均加入一項所謂「全國一盤棋」的曝光系統研發計畫，逆向研究荷蘭ASML及日本Canon、Nikon等成熟的曝光機機型。但此次宇量昇生產曝光機，可能不單只是為了繞過ASML的專利障礙，而是試圖開闢新的技術路徑，研究出性能更好的機型，因此利用不同技術路徑，分別造出好幾座機器並測試，這是合理手段，推論中國消息來源的說法具可信度。

烏凌翔說，假設宇量昇的曝光機原型為浸潤式DUV，解析度28奈米，正在調整測試中，那計算「曝光」便是必須要測試的重要一環，但光是這一階段，就必須耗費大量時間、繁複程序，更不用提各項測試及安裝，「中國有這麼多時間嗎？」

烏凌翔指出，隨著韓國川習會落幕，美國調降對中關稅、中國暫緩稀土管制並購買美國大豆，但是，美國對中限制半導體設備及材料出口的議題並未得到討論，「大國競爭不會輕易休兵」，雙方將透過談判拖延，爭取時間補強自身弱項。中美雙方都需要靠拖延，已達到國際關係理論所指「國家要強大，外部靠結盟、內部自立自強」。(推薦閱讀)台積電一口氣「連漲4年」代工價！全資源灌注先進製程　這類客戶恐缺貨

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