ASML執行長：首批High NA EUV製晶片數月內問世

（路透安特衛普19日電）世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克今天說，預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。

ASML最大客戶台積電4月才表示，High NA EUV曝光機太過昂貴。這種機器每台價格最高可達4億美元（約新台幣126億6000萬元）。

不過，福克（Christophe Fouquet）今天在比利時的微電子研究中心（imec）主辦的一場會議上說，High NA EUV曝光機將降低最先進晶片的圖案化（patterning）成本，無論是邏輯晶片或記憶晶片。