陸國產浸潤式DUV進入小量生產，艾司摩爾週一挫8.52%至近2個月低點

【財訊快報／陳孟朔】中國傳已開始小量生產自主研發的浸潤式深紫外光(DUV)曝光機，跨出降低先進晶片設備對海外依賴的重要一步。相關設備今年初期產量估計僅約5台，2027年可能增至約20台，首批系統預計年內交付中芯國際(00981.HK；688981.SH)、華虹半導體(01347.HK；688347.SH)及長鑫科技(688825.SH)。消息震撼全球半導體設備類股。荷蘭艾司摩爾(ASML.AS)週一在阿姆斯特丹股市暴跌8.52%，收報1,429.80歐元，日低在1,419.60歐元，為6月1日以來最低收盤水準；儘管單日遭遇重挫，今年以來仍累計上漲55.18%。
中國國產設備據報由一家獲國有資本支持的上海企業生產，目前在曝光精度、穩定性、產能與良率方面仍落後艾司摩爾，需要經過晶圓廠進一步測試才能大規模導入。中國過去雖已能生產部分較低階曝光設備，但浸潤式DUV是製造較先進晶片的關鍵工具，可配合多重圖形化技術向更小製程推進，因此小量生產仍具有供應鏈自主化的象徵意義。
不過，DUV突破不等同中國已掌握極紫外光(EUV)技術。中國國產EUV設備目前仍處於原型機階段，在光源、光學系統、精密控制及量產可靠度方面面臨更高門檻，艾司摩爾在最先進曝光設備市場的技術優勢短期仍難被取代。週一股價急跌主要反映市場開始重新評估艾司摩爾在中國DUV市場的長期市占率，而非其EUV壟斷地位已立即受到動搖。

下載「財訊快報App」最即時最專業最深度