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高雄藝術博覽會二十日在新光三越高雄左營店文化會館登場

中華日報

更新於 03月17日07:09 • 發布於 03月17日07:09
「潛龍特展」參展藝術家王仲平(右)及吳惠淳(中)暢談創作理念。(記者王正平攝)

記者王正平/高雄報導

由大苑藝術主辦的 ART KAOHSIUNG 高雄藝術博覽會,訂二十日起一連四天在新光三越高雄左營店文化會館登場,大苑藝術總監張學孔指出,本屆博覽會廣邀南部重要美術院校,如台南藝術大學、長榮大學、高雄師範大學共襄盛舉,更推出以藝壇新星為主角的「潛龍特展」,歡迎各界共襄盛舉。

張學孔總監指出,「潛龍特展」這項創舉,集結共十一位台灣各大美術獎得主,獎項包含臺北美術奬、高雄奬等,除了透過博覽會提供其藝術舞台,更為其個別媒合藝廊一同推動,更可望於未來藉由與國際藝廊合作,將他們的藝術表現展於國際藝壇。

張學孔並重申高雄作為南台灣重要都會的不墜地位,他指出,高科技產業進駐當地,可望為藝術產業帶來正向助力。

大苑藝術舉辦展前記者會中,參展藝術家王仲平及吳惠淳暢談創作理念;善於水墨與膠彩創作的吳惠淳以東方美感為底蘊,透過虛實交錯的筆墨語彙構築流動而富張力的空間表現。她表示,其創作涉及對認同的思索,本次將於「潛龍特展」呈現的多幅畫作常以台灣花磚的圖像語彙與海岸的自然風景為元素,而花磚即連結到她出身台南的文化背景。

以攝影為主要創作媒材的王仲平於展前記者會展示了攝影作品《潮濕的窗⼾ II》,屬於他將於本屆高雄藝術博覽會呈現的系列,該系列來自他於2024年舉辦的個展;他表示,這些作品是面對鏡面或窗戶拍攝,藉此探討影像的平面性與深度之間的辯證。尤其攝影畫面觀之,多以低資訊、平面化與抽象化的視覺形式,將攝影的深度從再現空間中撤回至表面,使觀看重新回到光、物質、與時間的交織關係。

「潛龍特展」藝術家如下,邱子晏(臺北美術奬)、林弈軒及王仲平(高雄奬)、林世雍(鴻梅新人獎)、張宸瑋(高雄奬、麗寶雕塑獎 )、張凱亘(宜蘭美術獎)、陳奕龍(璞玉發光-璞玉獎)、吳惠淳(中山青年藝術獎、璞玉發光-璞玉獎)、李芳妤及王柏欽(中國信託當代繪畫獎)、葉哲瑀(中山青年藝術獎、臺東美展)。

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