中國追上ASML造出EUV原型機？外媒潑冷水：少了「這公司」光學技術設備無法運作

美國對中國祭出晶片禁令，限制高階晶片與曝光機等半導體製造設備出口，不過，外媒日前報導指出，中國已成功打造出首台極紫外光（EUV）曝光機原型機。然而，荷蘭媒體強調，ASML的「秘密武器」正是來自蔡司的高精密反射鏡，且蔡司是ASML光學系統的唯一供應商。現今市面上最新、效能最強的手機與電腦晶片，幾乎無一不是透過ASML的設備製造，而若缺乏蔡司的光學技術，這些設備根本無法運作。

荷蘭《電訊報》（De Telegraaf）報導，在德國南部小鎮奧伯科亨（Oberkochen），隱藏著ASML能在未來數年持續維持霸權地位的關鍵力量，也就是與蔡司之間深度且密不可分的合作關係。在追求效率的荷蘭團隊推動下，德國工程師不斷挑戰物理極限，投入一場研發更精密技術、打造更強晶片的全球競賽。這座僅約8000人口的小鎮，掌控著全球運算能力進化的節奏。

蔡司半導體光學元件製造總裁Christoph Hensche表示，ASML設備能將晶片圖案縮小到什麼程度，很大程度取決於光學系統解析度的提升，「這意味著我們的反射鏡就是整個系統的心臟。」

報導提到，蔡司與ASML的合作關係可追溯至1980年代，當時ASML剛從飛利浦獨立。到了1990年代，ASML決定投入數億歐元發展當時仍前景未明的EUV技術，蔡司也選擇並肩投入研發。

Hensche回憶，雙方曾共同度過無數艱難時刻，特別是在2008年金融海嘯前後，但最終找到突破困境方法。他形容，德國式的嚴謹與ASML的務實文化形成良好互補，「ASML天生更願意承擔風險，而我們則傾向深入分析、穩紮穩打。我們最終選擇共同冒險，因為雙方都知道，產品必須在正確的時間推向市場，通常是愈快愈好。」

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