日亞再度勝訴、億光在中國之覆晶晶片專利遭判無效

日本 LED 大廠日亞化學工業 (Nichia) 在週二 (30 日) 發布新聞稿表示，在 2019 年 6 月 27 日由該公司向億光電子 (中國) 有限公司 (下稱「億光中國」) 覆晶晶片技術之中國專利 (專利申請號：ZL200710161547.X；下稱「547 號專利」) ，提出專利無效宣告請求。

中國國家知識產權局近日作成審查決定 (案件編號：4W108258)，承認日亞之主張，宣告 547 號專利全部無效。

中國國家知識產權局作成上述決定後，億光中國前就 547 號專利對日亞及日亞客戶向深圳市中級人民法院所提起之專利侵害訴訟 (案號：(2017) 粵 03 民初 2283 及 2284 號)，亦因億光中國撤回起訴而告終結。

此外，日亞先前在 2019 年 1 月，就其控告億光中國及其中國經銷商之 YAG 專利侵害訴訟取得勝訴判決，此判決亦已確定。日亞並獲得億光中國及其經銷商共計人民幣 320 萬元之損害賠償。

億光中國為 LED 封裝廠億光 (2393-TW) 的子公司，該公司與日亞過去自 2016 年 3 月起，就因侵權問題纏訟多年。

而相關訴訟則是於 2019 年 1 月 10 日，由北京知識產權法院作出 3 則判決。其中 2 則判決，皆判定億光應給付日亞人民幣 100 萬元的損害賠償，以及人民幣 25 萬元的合理訴訟費用。

而另 1 則判決，判定億光應給付日亞人民幣 50 萬元的損害賠償，及人民幣 20 萬元的合理訴訟費用。累計賠償金額達人民幣 320 萬元。