重大突破：中國開始批量生產自主研發的DUV光刻機

（德國之聲中文網）美國媒體《信息報》（The Information ）本周一（7月27日）援引兩名不具名知情人士稱，一家總部位於上海的企業已啟動浸沒式深紫外（DUV）光刻機的小規模批量生產，預計今年內向中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要芯片制造商交付首批約5台設備，2027年產量計劃提升至約20台。這款中國產光刻機主打28納米芯片生產，還可滿足7納米級別芯片的制造需求。

報道未披露這家獲得國家支持的制造商的具體名稱，但稱該公司整合了中國多家企業的研發團隊，其中包括政府支持的芯片設備初創企業上海宇量昇科技有限公司。《金融時報》去年9月曾報道，中芯國際測試的國產浸沒式DUV光刻機來自上海企業宇量昇。

路透社本周二報道稱，該公司名為上海愛晟納電子科技集團，是一家國營企業，2023年8月在上海成立，注冊資本就高達70億元人民幣，主要股東為上海電氣控股集團及上海國際信託旗下子公司等國有資本。

可能挑戰阿斯麥在中國市場的地位

浸沒式DUV光刻機可將電路圖案精准轉印至硅晶圓上，是目前中國芯片制造商目前可以使用的最先進的光刻設備。2019年，荷蘭政府沒有續發阿斯麥（ASML）向中國出口極紫外（EUV）所需光刻機的許可證。此後，阿斯麥未再向中國客戶交付過極紫外（EUV）光刻機。從2023年起，中國客戶獲取最先進浸沒式深紫外光刻機也受到越來越嚴格的限制，但較舊或較低端的深紫外光刻機並未全部被禁。

中國企業的這項突破最終可能會挑戰阿斯麥（ASML）在中國的市場地位，部分替代其主導的進口設備。隨著美國考慮對外國光刻設備出口和在華維修實施更嚴格的限制，中國的這項技術有望為中國芯片制造商提供關鍵設備的替代來源。

報道發布後，阿斯麥（ASML）股價下跌超過8個百分點，跌至6月初以來的最低水平。歐美其他光刻機生產商的股價也應聲下跌。

不過，《信息報》（The Information ）的報道指出，上海公司開始生產的浸沒式深紫外光刻機在性能和可靠性方面仍有不足，在量產前還需要進一步測試，阿斯麥（ASML）公司依然存在優勢。

報道還稱，中國也在研發國產極紫外光刻機（EUV），但目前仍處於原型階段。

（路透社等）

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