ASML驚傳2028年全面調漲EUV售價！台積電2奈米生產成本恐激增
ASML 宣布調整定價策略，計畫針對低數值孔徑 EUV 設備實施漲價，此舉引發台積電強烈不滿。面對 ASML 的技術壟斷，台積電恐難以抵擋這波漲價壓力，必須提前因應未來昂貴的 EUV …
近期，根據全球頂尖微影設備製造商 ASML（艾司摩爾）在第二季度財務結果中所揭露的最新資訊，該公司正積極研擬針對旗下低數值孔徑（Low-NA）極紫外光（EUV）曝光機產品實施價格上調的策略，而此舉已在業界投下震撼彈，並引發了包括台積電等主要核心客戶的強烈不滿情緒。
ASML 首席財務長羅杰·達森（Roger Dassen）對此明確指出，公司計畫將嚴格根據產品在當前市場所體現的實際價值，來重新調整整體的定價策略，這也是 ASML 應對技術升級與成本結構變化的重要手段。
隨著 ASML 透過持續不斷的技術創新與軟體最佳化，大幅提升曝光機設備的實際生產力，公司高層認為相關的設備價格方案也必須隨之進行相應的動態調整，以真實反映這些設備為客戶帶來的鉅額經濟效益。
為了確保客戶的生產線能夠持續保持最高效率，ASML 內部設有專門的已安裝基地管理業務部門，該部門的主要職責便是致力於維護與升級現有已經上線運作的機器設備，而值得注意的是，近期絕大部分的微影設備生產力提升，其實均源自於驅動 EUV 機器的軟體系統更新與升級。
達森針對低數值孔徑曝光機的定價策略進一步深入解釋，他強調公司在持續推進低數值孔徑工具生產力提升的同時，實際上也已經為未來的潛在價格最佳化奠定了極為堅實的基礎。「價值導向定價」一直是 ASML 內部長期遵循且不可動搖的核心商業理念，在當前充滿挑戰的總體經濟與高度競爭的半導體產業環境下，相關設備產品對客戶而言所體現的實際商業價值，毫無疑問地已經達到了前所未有的更高水準。
2028 年起將正式啟動新版報價機制
這意味著市場上多款主流的低數值孔徑 EUV 曝光機未來都將面臨無法避免的售價上漲命運，其影響範圍涵蓋了當前多數的先進製程節點。
具體而言，諸如專門用於製造最尖端 2 奈米製程節點的 TWINSCAN NXE:3800E、廣泛適用於 3 奈米和 5 奈米節點的高效能設備 TWINSCAN NXE:3600D，以及目前技術已經趨於成熟且穩定運用於 5 奈米和 7 奈米節點的 TWINSCAN NXE:3400C 等低數值孔徑 EUV 微影設備，都已被列入這波漲價的潛在名單之中。
對於這些動輒造價上億美元的精密設備而言，任何幅度的價格調整，都將直接牽動全球半導體代工廠的資本支出與成本結構，並進一步影響終端消費性電子產品的定價。
儘管 ASML 官方為了穩定短期內的市場情緒與客戶關係，已對外承諾目前的既有訂單仍將嚴格按照雙方先前預定的價格繼續執行，不會發生片面毀約的狀況，但 ASML 同時也明確表示，公司計畫將從 2028 年起，正式針對新接單的低數值孔徑 EUV 掃描儀全面調整價格。
這項中長期的戰略佈局，無疑是向全體客戶預先發出了強烈的漲價預告，要求代工廠在規劃未來的產能擴充與設備採購預算時，必須將這項不可逆的成本上升因素納入考量。
供應鏈議價失衡，技術獨佔將迫使晶圓代工巨頭低頭
這項來自 ASML 的強硬漲價計畫，毫不意外地讓目前位居全球最大的半導體晶圓製造企業台積電感到非常不滿與擔憂。對於 ASML 單方面釋出的漲價意向，已經透過各種管道表達了最為明顯的反對意見與實質上的阻力，試圖在這場跨國企業的博弈中捍衛自身的利潤空間與股東權益。
然而，商業談判的現實往往取決於雙方在市場上的無可取代性。鑑於目前全球半導體設備市場上，完全缺乏能夠在技術規格、良率穩定度以及產能輸出上，真正替代 ASML 同類功能的 EUV 掃描儀供應商，台積電在幾經權衡與內部深度評估之後，業界普遍預計其最終仍將別無選擇地選擇妥協，並被迫接受這波由設備商主導的調價方案。
面對 ASML 這種唯一能夠提供生產武器的軍火商，其議價能力依然顯得相當脆弱且處於劣勢。這場看似單純的設備漲價風波，實則深刻反映了全球高科技供應鏈中，核心技術獨佔所帶來的權力失衡現象。未來，隨著先進製程不斷向 1 奈米甚至更小節點推進，技術研發的成本與難度將呈現指數型攀升，類似 ASML 這樣憑藉技術壁壘來強勢定價的商業戲碼，必定還會在半導體產業的歷史舞台上反覆上演。