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瞄準「後HBM」商機 黃崇仁現身主持法說:力積電WoW全球領先

鏡週刊

更新於 12小時前 • 發布於 12小時前 • 鏡週刊 Mirror Media
力積電董事長黃崇仁今(14)日主持法說會。

力積電董事長黃崇仁今年4月股東會因故未出席,當時公司表示,下一次重要法人活動將由董事長親自主持。黃崇仁今(14)日履約親自主持法人說明會,大篇幅介紹力積電3D AI Foundry布局,並高喊Wafer-on-Wafer(WoW)技術已居全球領先。他表示,隨著AI晶片持續追求高頻寬、低功耗,WoW未來有望成為後HBM時代的重要技術方向之一。

力積電董事長黃崇仁表示,力積電近年積極轉型,目前已從傳統成熟製程代工,發展為涵蓋記憶體、邏輯代工及3D AI Foundry三大業務的半導體公司,其中3D AI Foundry將是未來最重要的成長引擎,布局包括矽中介層(Interposer)、矽電容(Silicon Capacitor)、Wafer-on-Wafer(WoW)及後段晶圓製造(PWF)4大產品線。

黃崇仁表示,WoW是力積電投入超過6年的核心技術,也是公司最具競爭力的布局之一。他指出,目前力積電已完成4層WoW主要客戶資格認證,8層DRAM堆疊良率也已超過9成,並持續朝更高層數堆疊技術發展。他表示,WoW需要長時間累積混合鍵合(Hybrid Bonding)製程與晶圓薄化經驗,「很多公司都想做,但沒有像我們做那麼久」。

黃崇仁指出,力積電是全球唯一完成4層WoW資格認證、也是唯一完成8層DRAM堆疊且良率超過9成的業者,在相關技術具備領先優勢,其他競爭者仍需較長時間追趕。力積電總經理朱憲國補充,目前4層WoW產品良率已達量產水準,並完成主要客戶驗證,正等待先進邏輯晶片客戶產品導入,8層產品則仍持續驗證中。

談及WoW與HBM的差異,黃崇仁表示,目前AI晶片持續朝更高頻寬發展,但HBM堆疊層數愈來愈高,也伴隨更大的散熱與功耗挑戰。他表示,依公司評估,WoW可兼顧高頻寬與低功耗,未來若AI產業更加重視能源效率,將有機會成為AI晶片的新架構選項。

朱憲國進一步說明,目前HBM 4以前仍以Micro-bump堆疊技術為主,而WoW採用Hybrid Bonding直接貼合晶圓,可縮短晶片間垂直與水平傳輸距離,提高堆疊密度,也讓晶片做得更薄。他表示,目前已有國際記憶體大廠開始朝Hybrid Bonding發展,部分業者已採Micro-bump與Hybrid Bonding混合架構。

除WoW外,黃崇仁表示,力積電12吋矽電容已通過國際CPU大廠EMIB封裝技術認證,並開始穩定投片出貨,Interposer也受惠AI先進封裝需求持續增加,目前產線已完成移轉並開始量產爬坡。公司也同步布局矽光子及光通訊應用,希望持續擴大3D AI Foundry產品線。

朱憲國表示,目前3D AI Foundry受限於產能,今年營收占比仍為個位數,但客戶需求相當強勁,公司目標3年內將4大產品線合計營收占比提升至20%,藉由AI先進封裝、記憶體與邏輯代工3大業務同步成長,逐步改善獲利結構。

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