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台積電洩密案再添新內鬼!陳姓工程師移審智財法院 合議庭最快下午開

民視新聞網

更新於 01月08日03:03 • 發布於 01月08日02:54

即時中心/林韋慈報導

台積電洩密案有新進展,繼前工程師陳力銘勾結內鬼吳秉駿、戈一平,竊取2奈米晶片關鍵機密並交付東京威力科創(TEL)台灣子公司後,三人已遭智慧財產及商業法院收押禁見。案件偵辦再有進展,陳力銘供出新涉案者前台積電工程師陳韋傑,檢方今(8)日上午將在押的陳韋傑移送法院審理,他身穿綠色囚衣、腳踩藍白拖現身。

陳韋傑面對媒體全程未發一語。據了解,合議庭最快將於下午召開羈押庭,但由於陳韋傑至今未坦承犯行,檢方認為有串證、滅證之虞,交保恐有難度。根據檢警調查,陳力銘曾任職台積電系統整合部門工程師,離職後轉往東京威力科創擔任行銷及產品經理。他涉嫌勾結舊識吳秉駿、戈一平,非法取得台積電2奈米晶片製程與試產參數,並另找工程師陳韋傑,要求提供「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品與設備技術」。上述資料均被認定為國家核心關鍵技術之營業秘密。

檢方另發現,陳力銘的上司、東京威力台灣子公司高階主管盧怡尹,疑似為卸責,在案件爆發後甚至直接刪除公司雲端資料,涉嫌觸犯湮滅刑事證據罪,也已遭起訴。在第一波偵查中,檢方依《國家安全法》涉國家核心關鍵技術營業秘密域外使用等罪,起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平,智商法院裁定羈押並延押。第二波則依《營業秘密法》、《國安法》追加起訴東京威力科創台灣子公司,並具體求處罰金1億2千萬元。

檢方深入調查,從東京威力科創的雲端硬碟中發現「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品與設備技術」資料,再次提訊陳力銘後,他最後供出新人物陳韋傑。日前第三波偵結,追加起訴陳力銘、陳韋傑及東京威力科創,涉犯《國安法》擅自重製國家核心關鍵技術營業秘密罪。考量陳力銘坦承犯行並指證共犯,檢方對其求刑7年;陳韋傑則持續否認竊密,遭求刑8年8個月;涉嫌滅證的盧怡尹,因供述避重就輕,檢方求刑1年。

智慧財產及商業法院目前正密集審理第一、第二波洩密案,認定陳力銘、吳秉駿、戈一平3人供述避重就輕,且仍有共犯未清,日前裁定延押至1月底。

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