美疑最先進EUV流入中國 艾司摩爾遭關切
（路透愛因霍芬18日電）根據彭博今天報導，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）已向荷蘭晶片設備大廠艾司摩爾（ASML）的高層表達疑慮，指出該公司某款最先進的設備可能已流入中國，違反由美國主導的出口限制令。
報導引述知情人士的消息指出，盧特尼克在近期多場會議中，特別向艾司摩爾高層對其旗下的極紫外光曝光機（EUV）表達關切。中央社（翻譯）
您使用的瀏覽器版本較舊，已不再受支援。建議您更新瀏覽器版本，以獲得最佳使用體驗。
（路透愛因霍芬18日電）根據彭博今天報導，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）已向荷蘭晶片設備大廠艾司摩爾（ASML）的高層表達疑慮，指出該公司某款最先進的設備可能已流入中國，違反由美國主導的出口限制令。
報導引述知情人士的消息指出，盧特尼克在近期多場會議中，特別向艾司摩爾高層對其旗下的極紫外光曝光機（EUV）表達關切。中央社（翻譯）