ASML股價重挫逾8%！中國傳啟動DUV微影機量產，全球設備巨頭為何一起暴跌？
美國科技媒體《The Information》7 月 27 日引述匿名知情人士報導，一家未被點名的上海國資背景企業據報已開始製造浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，進入有限度的初期生產，首批機台預計今年內交付中芯國際、華虹半導體與長鑫存儲（CXMT）。
報導發布後，原本在盤中上漲的荷蘭微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）出現賣壓，股價一度重挫 8.3%、跌至 6 月初以來低點，跌勢隔日更蔓延到東京，尼康（Nikon）、佳能（Canon）與 Lasertec 同步走跌。
今年 5 台、明年 20 台，首批交付中芯、華虹、長鑫
《The Information》並未點名這家公司，僅指出它集結了多家中國企業的研發團隊，其中包括國資新創上海宇量昇科技（Shanghai Yuliangsheng Technology）。據《Tom's Hardware》整理，中芯國際自 2025 年 9 月起已在測試宇量昇的浸潤式 DUV 機台。
依報導規畫，這家公司 2026 年目標生產約 5 台 DUV 曝光機、2027 年提高到約 20 台，生產進度仍屬早期。機台多數零件已國產化，但部分關鍵零件仍來自日本，加上本土供應商交期延誤，拖累今年出貨進度。《路透》轉述指出，這套系統的效能與可靠度仍落後，須經進一步測試才能進入成熟量產。
DUV曝光機負責把電路圖案「印」上晶圓，被稱為半導體業的主力機台。據報導，這批中國國產浸潤式 DUV 設備鎖定 28 奈米級製程；多重圖形化理論上可延伸至更先進節點，但疊對精度、產能與良率仍待實際產線驗證。
跌勢從阿姆斯特丹一路蔓延到東京
ASML 拒絕對報導置評。不過投資人對任何威脅 ASML 壟斷地位的訊號都高度敏感：7 月 27 日 ASML 股價一度下殺 8.3%，同業 ASM International 一度跌 7.3%、BE Semiconductor 跌 9.9%，美國設備商應用材料（Applied Materials）與科林研發（Lam Research）也分別跌 6.7% 與 7.9%。
7 月 28 日輪到東京股市：同樣生產浸潤式 DUV 的尼康一度重挫 9.2%、生產成熟製程設備的佳能跌 6.3%，雙雙寫下兩個多月來最大盤中跌幅；日本半導體檢測設備商 Lasertec 跌幅一度達 12%。
一家沒被點名的公司，為何嚇壞市場？
ASML 幾乎壟斷這門生意。研究機構 AI Futures Project 6 月的分析援引 TechInsights 2024 年資料指出，ASML 當年占全球浸潤式 DUV 市場 98.7%。
中國市場方面，ASML 財務長 Roger Dassen 在 7 月法說會上預估，中國業務約占 2026 年總淨銷售 20%，低於 2025 年的 29.1%（依 ASML 2025 年年報，中國客戶占全年總淨銷售比重）。若按 2026 年第二季系統銷售出貨地計算，中國占 14%，位居南韓（43%）與台灣（30%）之後。
疊加政策變數，市場的緊張就不難理解。在美國主導的出口管制下，ASML 最先進的極紫外光（EUV）機台禁售中國，最先進的 DUV 機種也在限制之列。
ASML 執行長 Christophe Fouquet 先前表示，目前可銷往中國的較低階 DUV 設備採用約 2015 年推出的技術，約落後先進晶片製程八個世代。
美國國會審議中的 MATCH 法案（H.R. 8170）則點名中芯國際、華虹、長鑫存儲、華為與長江存儲，擬要求業者對這些晶圓廠出售或維修特定設備前，須先取得許可；該法案 4 月 22 日經眾議院外交委員會表決送出，截至 7 月 28 日尚未完成立法。
若法案後續通過並落實，相關晶圓廠取得設備維修與技術服務的門檻可能提高。而國產機台的首批三家客戶（中芯、華虹、長鑫），正好都在這份名單上。
短期內，ASML 的地位仍難被撼動。新機台導入產線的認證動輒數月，效能與可靠度仍落後 ASML；AI Futures Project 的基準推估顯示，中國可支援 7 奈米製程的國產浸潤式 DUV，可能要到 2030 年代中期才進入大規模商業應用。
至於中國國產 EUV，《路透》2025 年 12 月報導的是一台在 2025 年初完成、仍在測試中、尚未能產出可用晶片的原型機，距離商用更遠。
Dassen 並在法說會上表示，2026 年浸潤式機台出貨量約 130 台、與 2025 年持平，並計畫 2027 年將浸潤式產能再擴增 30%。
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資料來源：《彭博》、《路透》、《Tom's Hardware》、《中央社》、ASML 2026 年第二季財報、ASML 2025 年年報、AI Futures Project 分析、《Yahoo Finance》、美國國會 H.R. 8170 法案、《TechPowerUp》
本文初稿為AI編撰，整理．編輯/ 李先泰
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