台積：新EUV沒非用不可
艾司摩爾（ASML）下世代極紫外光（EUV）微影設備報價高達近4億歐元（約4.5億美元），較目前機種1.5億歐元三級跳。外電報導，台積電（2330）業務開發、全球業務資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示，即便台積電進入埃米製程，也還沒看到非用下世代EUV設備不可的理由。
外電報導，台積電27日舉行2025年度技術論壇歐洲場，期間有人提問台積電是否計劃將艾司摩爾下世代EUV高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備用於即將推出的A14（1.4奈米）製程及未來製程的升級時，張曉強釋出以上看法。
法人認為，英特爾、三星陸續表態其擁有下世代EUV設備，並宣稱可藉此大力發展新世代製程，台積電持續投入新製程節點研發之餘，還不急著用下世代EUV，凸顯台積電內部研發能量強，靠現有設備就能持續發展新世代製程，不受下世代EUV設備昂貴需扛下龐大折舊攤提費用衝擊，進而確保獲利率。
張曉強表示，「A14，我所說的強化提升，在不使用High-NA EUV的情況下也非常顯著。因此，我們的技術團隊繼續尋找一種方法，透過利用規模效益來延長當前（低數值孔徑為影設備）的壽命。只要他們能繼續找到方法，顯然我們就不必使用它（High-NA EUV）。」
一台High-NA EUV造價逾4億美元，幾乎比目前晶圓廠中最昂貴設備的價格翻倍，因此晶片製造業正權衡，昂貴的High-NA EUV在速度和精確度方面帶來的效益，何時才能蓋過其高昂成本。