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ASML:EUV光源突破 2030年晶片產量增達50%

on.cc 東網

更新於 5小時前 • 發布於 5小時前 • on.cc 東網

外媒報道,荷蘭光刻機生產商ASML的研究人員表示,已找到一種方法可大幅提升關鍵晶片製造機器的光源功率,從而於2030年前將晶片產量提高達50%。ASML的極紫外(EUV)光源首席技術官Michael Purvis表示,這並非噱頭,也非只能維持極短時間演示的把戲。

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