韓晶片技術外洩中國案　公司高管終審判囚1年半

南韓半導體公司SK海力士7年前爆出對華洩露晶片技術案，最高法院周四（12日）作出終審判決，判處一名任SK海力士合作公司高管的被告有期徒刑1年6個月，維持原判。

該高管和其他三名職員涉於2018年將與SK海力士合作時得知的晶片關鍵技術、最新技術及商業機密，洩露至中國競爭企業。他們還涉嫌通過三星電子子公司SEMES前員工獲取圖紙等機密資料，並以對華出口為目的研製相關設備。

因涉嫌違反《關於防止洩露和保護產業技術的法律》和《關於防止不公正競爭和保護商業機密的法律》，該高管被起訴，一審法院判處有期徒刑1年，二審法院則提高量刑至1年半。其餘涉案三人也被判囚1年至1年半不等。

東網網站 : https://on.cc/東網Facebook專頁 : https://www.facebook.com/onccnews/