ASML：EUV光源突破 2030年晶片產量增達50%
外媒報道，荷蘭光刻機生產商ASML的研究人員表示，已找到一種方法可大幅提升關鍵晶片製造機器的光源功率，從而於2030年前將晶片產量提高達50%。ASML的極紫外(EUV)光源首席技術官Michael Purvis表示，這並非噱頭，也非只能維持極短時間演示的把戲。
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