華為大舉投資半導體設備，產線規模達 224 個足球場

市場消息，中國晶圓代工廠中芯國際和華為可能成功開發 5 奈米製程，但無法取得 ASML 最新 EUV 設備，必須依賴 DUV，華為技術將無法繼續突破。最新報告指出，華為欲大力投資研發半導體設備，以能繼續生產尖端晶片。

Wccftech 報導，華為先進半導體設備產線建成後，占地約 224 個足球場大。因美國禁令讓華為走上自給自足之路，但路上充滿波折和障礙，更何況半導體業需極其龐大的資本。

日本經濟新聞報導，華為在上海附近建造研發中心，目標是開發 ASML、Canon 和 Nikon 等同級半導體設備。華為合作夥伴中芯國際和華虹已禁止購買生產 14 奈米 FinFET 和 16 奈米 FinFET 設備。

中芯國際與華虹半導體只能取得生產 28 奈米以上 DUV 系統，較美國同業落後嚴重。加上 ASML EUV 市佔超過 90%，華為卻無法取得，成為自研設備的原因。華為已投資約 16.6 億美元，工廠產線面積約 224 個足球場，可容納超過 35,000 名員工。據稱華為也祭出頗具吸引力的待遇以吸引人才。

目前沒有中國公司可招募有綠卡的美國公民，華為只能僱用本國人。且不清楚新廠完工後，中芯國際和華為是否繼續合作，如果中芯國際想持續發展，就需一切幫助，以突破美國限制。

(首圖來源：華為)

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