荷蘭擴大半導體曝光機出口管制！中國重批美國「脅迫個別國家」

美中貿易戰持續緊張，荷蘭宣布自 2024 年 9 月 7 日起，適用於先進半導體製造設備的國家出口管制措施將擴大，其中艾司摩爾（ASML）的 1970i 和 1980i 浸潤式微影系統深紫外光曝光機（DUV）將會受到影響，因此中國商務部今日重批美國「脅迫個別國家」。

美國宣布再收緊先進半導體製造設備出口管制措施後，荷蘭緊跟著宣布擴大限制半導體製造設備出口，受到最大影響的就是 ASML 的 1970i 和 1980i 浸潤式微影系統深紫外光曝光機（DUV），兩款機型屬於中階位置，但 ASML 發表聲明指出，不預期新監管措施會對今年或未來的營收造成影響。

荷蘭外貿和發展援助部長克雷佛（Reinette Klever）表示，基於安全上的理由，荷蘭作出這項決定，因為技術進步已經導致與此一特定製造設備出口相關的安全風險增加，擴大的出口管制措施，預計將有更多類型的設備受到國家授權要求。

為了避免中國取得可能用於尖端武器和人工智慧（AI）等技術的敏感生產要素，荷蘭和日本先前已加入美國的行列，針對先進晶片製造設備實施特定的出口限制。克雷佛指出，相關設備可能用於生產先進半導體，從而在先進軍事應用上發揮關鍵作用，甚至對荷蘭在安全上的利益造成影響。

國家授權要求規定，代表從即日起，企業出口此類先進製造設備必須申請授權，政府將根據具體情況評估申請，荷蘭強調，因此這不是出口禁令，因為該國家措施適用於從荷蘭向歐盟以外目的地的出口。

中國商務部今日以「荷蘭半導體出口管制」為題回應，中國與荷蘭雙方就半導體出口管制問題進行多層級、多次的溝通磋商，荷蘭在 2023 年的半導體出口管制措施基礎上，進一步擴大對曝光機的管制範圍，中國對此表達不滿。

中國商務部指出，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈、供應鏈穩定，並損害相關國家和企業正當權益，中國對此堅決反對。

中國商務部強調，荷蘭應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙中荷兩國的半導體業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈、供應鏈穩定。

（首圖來源：ASML）

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