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理財

「太赫茲輻射」成功磁化反鐵磁材料,革命性技術突破記憶晶片極限

明日科學

更新於 2024年12月31日09:05 • 發布於 2024年12月31日09:00 • 高 詩豪

麻省理工學院(MIT)的物理學家利用太赫茲輻射,成功改變反鐵磁材料的磁性狀態,這項突破可能推進未來記憶晶片技術的發展。反鐵磁材料的原子自旋排列為「上下交錯」,使其總體磁化為零且不受外部磁場影響。然而,這一特性同時使其難以控制,成為磁性材料研究中的挑戰。

研究團隊選用 FePS3 作為研究對象,該材料在118 K(約零下155°C)以下進入反鐵磁態。科學家利用太赫茲輻射刺激材料內原子的振動頻率,這些振動(亦稱為「聲子」)與自旋相互耦合,進而改變材料的自旋排列,使其偏離原本的磁性平衡。結果顯示,材料成功從無磁化的狀態轉變為具有有限磁化的新磁性狀態。

為進一步確認改變是否成功,研究人員使用帶有相反圓偏振的紅外雷射進行測試。結果證實,太赫茲脈衝改變了材料的磁性,並且新狀態可持續數毫秒,遠超其他系統中光誘導相變僅能維持皮秒(千兆分之一秒)的紀錄。

利用自旋方儲存資料,數據不易受干擾

實驗裝置說明:圖中標示了主要元件的功能,包括光束分束器(BS)、光學參量放大器(OPA)、拋物面鏡(PM)、透鏡(L)、半波片(HWP)、四分之一波片(QWP)及光電二極體(PD)。這些元件協同作用,用於生成並調控太赫茲脈衝。 太赫茲脈衝特性:圖中展示了脈衝的場強分布,峰值電場強度約為 300 kV/cm。內嵌圖則顯示了脈衝的傅立葉頻譜。(圖/《自然》)
實驗裝置說明:圖中標示了主要元件的功能,包括光束分束器(BS)、光學參量放大器(OPA)、拋物面鏡(PM)、透鏡(L)、半波片(HWP)、四分之一波片(QWP)及光電二極體(PD)。這些元件協同作用,用於生成並調控太赫茲脈衝。 太赫茲脈衝特性:圖中展示了脈衝的場強分布,峰值電場強度約為 300 kV/cm。內嵌圖則顯示了脈衝的傅立葉頻譜。(圖/《自然》)

這項研究顯示,反鐵磁材料的穩定性和不受外部磁場影響的特性,讓其在資訊存儲技術中具有廣闊應用前景。例如,反鐵磁記憶晶片可利用自旋方向儲存資料(如「0」和「1」),數據不易受外界干擾,並能提高設備穩定性與效能。

這一成果為磁性材料的精確控制提供了全新方法,並可能推動資訊處理與存儲技術的革命性進展。相關研究成果已發表於《自然》期刊。

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首圖來源:Adam Glanzman (CC BY 4.0)

圖片來源:Nature (CC BY 4.0)

參考論文:
Terahertz field-induced metastable magnetization near criticality in FePS3Nature

延伸閱讀:
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