成台積電潛在競爭對手，輝達不排除選擇 Rapidus 2 奈米製程

先前的市場消息指出，日本新創晶圓代工商 Rapidus 將成為第一家採用 EUV 曝光設備，並準備開始 2 奈米節點製程的日本企業，這情況將可能讓 Rapidus 在 GPU 大廠輝達 (NVIDIA) 的供應鏈中占有一席之地。

Rapidus 2 奈米定 2025 年試產，量產 2027 年，落後台積電約兩年。台積電先進製程處於領先地位，幾乎所有大型科技企業晶片訂單都是台積電拿走。英特爾和三星狀況都不太好，給台積電更明顯優勢。但 Rapidus 日本廠整合 ASML EUV 曝光機，2 奈米也將準備就緒，可能成為台積電新對手。

Wccftech 報導，Rapidus 接受日經亞洲採訪透露，ASML EUV 於 12 月底安裝，對日本半導體產業是革命性進展。輝達一直與台積電尋找潛在合作夥伴，曾表示 Rapidus 展現令人印象深刻的良率和性能，不排除與 Rapidus 合作，因輝達迫切需要供應鏈多元化，選擇 Rapidus 也是意料中事。

Rapidus 2 奈米製程頗受市場青睞，除合作夥伴 IBM 外，也有幾家公司表示有興趣合作。未來 Rapidus 發展看來會很有趣，因有潛力成為台積電的新對手。

(首圖來源：Rapidus)

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