新應材（4749）宣布，將於2025年1月中旬興櫃轉掛牌上櫃！
新應材致力於研發與製造半導體應用的「特用化學材料」，是半導體製程逐步走向1.6奈米世代的隱形推手之一。
在歐、美、日大廠為主的特化材料領域，新應材如何打進「國內晶圓代工大廠」的供應鏈？
新應材董事長詹文雄表示，新應材成立滿21年，第一個10年團隊努力開發面板光阻，受到客戶認可；未來10年，會更努力突破創新，朝向半導體深紫外光（DUV）光阻開發， 「有相當信心完成下一個發展里程碑。」
新應材2024年前三季合併營收新台幣24.06億元、年增35.57％，稅後淨利5.24億元，每股盈餘（EPS）6.39元，已提前創下年度新高；在產品別營收方面，半導體營收佔78.5％、顯示器則是21.5％。
詹文雄指出，明年半導體營收佔比預期將持續擴大，業績可望年增20至30％；面板則因為國內面板客戶基本沒有在擴廠，預計比今年個位數百分比衰退。
從面板起家！新應材如今搶進2奈米賽道
創立於2003年的新應材，由面板光阻材料及清洗劑起家，自2018年起轉進半導體先進製程材料開發，聚焦對良率至關重要的微影（Lithography）特化材料，為台灣唯一在半導體微影製程從原料合成、純化到配方自主設計，並持續擴大量產的特化材料廠。
旗下主力產品包括：用於3奈米以下的表面改質劑（Rinse），以及用於2奈米的底部抗反射層（BARC）、洗邊劑（EBR）產品 等等。
詹文雄表示，新應材目前4大發展主軸涵蓋「半導體先進微影製程」、「半導體光學元件製程」、「顯示器製程」、「Micro LED量子點材料」等領域。
其中，半導體領域 自2019年至今，投入的資本支出加上研發費用合計已超過40億元，到明年底更將達到50億元 。隨先進黃光微影材料2023年獲晶圓代工客戶採用、3奈米製程量產，帶動營運顯著成長。
「半導體光阻」為下個發展重點
詹文雄指出，半導體特化材料研發與客戶驗證時間長，一支材料的開發及驗證，少則耗時3年、多則5年，而新應材擁有四大關鍵競爭優勢： 從配方開發向上整合自建原料合成能力、建立本土材料供應鏈策略聯盟、快速回應及高學習曲線，以及優異的品質控管及自主設計製程技術 ，已搶占與國際材料大廠競爭的有利位置。
新應材現階段在桃園龍潭、台南樹谷、南科高雄園區等地設有據點。詹文雄說明，桃園龍潭廠為顯示器特化材料製造及研發中心，台南廠、高雄廠主攻半導體特化材料的純化、合成及生產，其中擴建中的高雄廠二期正為滿足大客戶2奈米產能擴充做準備，預期2025年第二季完工、2026年正式量產，營收貢獻將視客戶投片量、產能利用率成長速度而定。
展望未來，「半導體光阻」將是新應材未來3~5年的發展重點，新應材總經理郭光埌指出，包括用於半導體光學元件的ARF光阻、以及前段製造的KRF光阻，且封裝特化材料也是後續發展重點之一。
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責任編輯：李先泰
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